原子スケール処理とは、原子スケールの制御によりウェハースケールの処理を行うことです。この原子レベルの制御は、薄膜のデポジション、表面層の除去またはエッチング、そしてグラフェンのような特別な独特な特性を持つ、1Dおよび2D材料の成長にも拡大しています。当社のプラズマ処理システムのラインナップは、原子スケール処理のソリューションの全てを実現します。特別なクラスター・システムとして、またはスタンドアローン・システムとして、生産規模において原子スケール精度で物質を創出していくことができます。このビデオを見るためにはJavaScriptを有効にしてください。HTML5ビデオをサポートするウェブブラウザへのアップグレードを検討してください。ついて、原子層堆積は低損傷となります。当社の特別なクラスター・システムは、大気への露出なしに、表面を直接被覆する能力を実現します。例として、ALDによる誘電体またはキャッピング層で被覆されたMoS2またはグラフェンのような、エッチング界面または新たに成長した2D材料があり、広範なデバイスの大きなメリットになっています。このビデオを見るためにはJavaScriptを有効にしてください。HTML5ビデオをサポートするウェブブラウザへのアップグレードを検討してください。making.このビデオを見るためにはJavaScriptを有効にしてください。HTML5ビデオをサポートするウェブブラウザへのアップグレードを検討してください。