本実施形態の液晶フィルムの製造方法では、上記工程を経ることにより、ゴム弾性を有し、かつ、ブラッグ反射が特定の波長で固定化された液晶フィルムを得ることができる。機械的圧力を加えることによって、その圧力に対応する波長の反射光が得られる液晶フィルムを製造することができる。[0176](液晶材料付与工程)液晶材料付与工程は、基板上に、上記実施形態の液晶材料を付与する工程である。基板としては特に制限されず、目的に応じて通常用いられるものから適宜選択することができる。基板としては、例えば、ガラス基板、プラスチック基板(例えば、ポリエチレンナフタレート(PEN)基板、ポリエチレンテレフタレート(PET)基板、ポリカーボネート(PC)基板、ポリイミド(PI)基板等)、アルミ基板やステンレス基板等の金属基板、シリコン基板等の半導体基板等を用いることができる。[0177]基板の厚さ、形状は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することが好ましい。基板上への液晶材料の付与方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法等の塗布法;インクジェット法;スクリーン印刷法;減圧注入法等の注入法;等が挙げられる。[0178](熱処理工程)熱処理工程は、基板上に付与された液晶材料に、熱処理して、液晶材料を硬化させる工程である。熱処理工程により、架橋前の特定セルロース誘導体が有する不飽和二重結合が開裂して、一般式(1A)で表される構成単位と重合性モノマーに由来する構成単位とが反応し、又は特定セルロース誘導体若しくは重合性モノマーが反応し、架橋構造が形成されるため、液晶フィルムはゴム弾性を発現し、かつ、ブラッグ反射の波長で配向が固定化される。[0179]熱処理方法は特に制限されず、例えば、公知の加熱装置を用いた熱処理方法であってもよい。加熱装置としては、特に制限はなく、例えば、オーブン、赤外線ヒーター及びホットプレートが挙げられる。[0180]熱処理の温度としては、適度なゴム弾性を有する観点、及び、ブラッグ反射の波長で配向を固定化する観点から、好ましくは25°C以上130°C以下、より好ましくは25°C以上120°C以下、さらに好ましくは25°C以上110°C以下である。熱処理の温度は、液晶材料が上記範囲になるように制御される。熱処理条件を制御することにより、ブラッグ反射の波長で配向を固定化することができる。[0182](紫外線照射工程)紫外線照射工程は、基板上に付与された液晶材料に、紫外線を照射し、液晶材料を硬化させる工程である。紫外線照射工程により、架橋前の特定セルロース誘導体が有する不飽和二重結合が開裂して一般式(1A)で表される構成単位と重合性モノマーに由来する構成単位とが反応し、又は特定セルロース誘導体若しくは重合性モノマーが反応し、架橋構造が形成されるため、液晶フィルムはゴム弾性を発現し、かつ、ブラッグ反射の波長で配向が固定化される。[0183]液晶材料に紫外線を照射する際の温度(以下、「UV照射温度」とも称する。)は、好ましくは0°C以上100°C以下、より好ましくは5°C以上50°C以下、さらに好ましくは10°C以上40°C以下である。UV照射温度は、液晶材料が上記範囲になるように制御される。[0184]また、紫外線の照射強度(以下、「UV照射強度」とも称する。[0185]紫外線の照射時間(以下、「UV照射時間」とも称する。)は、5秒~40分であることが好ましく、2分~20分であることがより好ましい。[0186]紫外線照射工程では、UV照射温度とUV照射強度とを組み合わせて制御することによって、異なるブラッグ反射で配向が固定化された液晶フィルムを得ることができる。UV照射温度を上記範囲に制御することによって、セルロース誘導体のリオトロピック液晶性が発現され、目的とする色に調整しやすくなり、所望の色が得られやすくなる。UV照射温度を上記範囲に制御し、かつ、UV照射強度(好ましくはUV照射時間)を上記範囲に制御することで、UV照射温度によって得られた色を固定化することができ、目的とする箇所に目的とする色を呈する多色からなる液晶フィルムが得られる。多色からなる液晶フィルム(すなわち、異なるブラッグ反射での配向が固定化されたフィルム)は、例えばフォトマスクを用いることで容易に得ることができる。