してご愛顧頂いていますが、この度、シリコンに代わる次世代パワー半導体の基板材料として期待されている、SiCおよびGaN用研磨剤を開発し、その仲間入りを果たしました。SiCおよびGaNは非常に難加工であることが知られていますが、以下にご紹介する研磨剤は、厳選されたコロイダルシリカ(研磨砥粒)と特殊なエッチャントとの組合せ技術により、これら難加工材に対しても比較的効率の良い研磨加工が可能です。パワーコンディショナーといった用途への応用展開が期待されています。以下にSiC基板とGaN基板用研磨剤製品にわけてその特徴と基本物性をご紹介します。“CL-4005”の特徴SiC(Si面)基板専用に開発した循環使用可能な2液型の酸性系研磨剤です。非過マンガン酸カリ系の中では高研磨Rateが得られます。研磨後の基板品質として表面粗さRa≦0.1nmを達成できます。設定することによって効果的に研磨Rateを向上できます。SUSに対する腐食性が弱く、研磨機に優しい研磨剤です。“CL-シリーズ”の特徴GaN(Ga面)基板専用に開発した2液型の酸性系研磨剤です。従来のアルカリ系研磨剤と比較して高研磨Rateが得られます。研磨後の基板品質として表面粗さRa≦0.2nmを達成できます。酸性系の研磨スラリーですが、一般的なSUSに対する腐食性はありません。(硬質ポリエチレン製偏平容器詰め、A液とB液のセットで段ボール梱包)も対応可能です。(硬質ポリエチレン製円柱型容器詰め)も対応可能です。3つの強み3つの強みを活かしたキーテクノロジーでハイテク産業を支え続けています。プラスチックレンズ用研磨剤製品その他研磨剤製品お問い合わせ当社製品、サービス等について、ご不明な点がございましたら、お気軽にお問い合わせください。お問い合わせいただきました内容については、後日弊社担当よりご連絡させていただきます。