APDシリーズパルス真空アーク放電を利用した新しいナノ粒子形成装置パルス真空アーク蒸着は、シンプルなプロセスで金属イオンを生成し、極薄膜やナノ粒子を形成する唯一の手法です。膜の平坦性、微粒子の形成など、他の蒸着法では得られない効果を得ることができます。1APD-P(粉体担持モデル)APD-S(基板蒸着モデル)鉄とカーボンの多層膜スケールバは5nm、鉄(黒い部分)は約1.5nmずつ積層されていることが判ります。この時のレートは1.5nmを20発で成膜しているので、約0.075nm/パルスになります。高電位に印加したターゲットにアークを発生させた後、コンデンサに蓄えた電荷をパルス的に瞬時に放電させ、ターゲット材料をプラズマにして基板にイオン化された蒸着粒子を付着させます。5つの特長コンデンサの容量を変えることでナノ粒子の粒径を約1.5nm~6nmまで自在に選択することが出来ます。導電性材料(ターゲット)であればどのような材料もプラズマ化できます。雰囲気を可変することで酸化物や窒化物を容易に生成することが出来ます。グラファイトをH2ガス中で放電するとUNCD(超微結晶ダイヤモンド)になります。本装置で担持されたナノ粒子は湿式と比較して高活性な触媒効果を示します。APD-Pモデルは粉体に担持します。APD-Sモデルは2in基板に担持します。※1、3、4については文献に依存します。アークプラズマ法によってCeO2に担持したPtおよびPd触媒は、従来の湿式法で調製した触媒に比べて高いCO酸化活性を示した。文科省元素戦略プロジェクト成果より。