電子デバイス用クリーナー溶剤ワックスや樹脂の溶解力に優れた、炭化水素やグリコールエーテル等の混合溶剤です。フォトリソ工程でのドライエッチング時に発生するレジスト変質膜(サイドウォールポリマー、デポ、残渣)を除去するための剥離液です。研磨材や、ピッチ・保護膜の洗浄に利用されます。汚れ成分に対する優れた洗浄性を有しています。:0834-62-0997お問い合わせ製品詳細PGMEAプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートレジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。:0834-62-0997お問い合わせ製品詳細ソルファイン®-SE-TW10/A液晶・半導体の洗浄用高純度溶剤です。:0834-62-0997お問い合わせ製品詳細PGMEプロピレングリコールモノメチルエーテルレジスト溶媒、半導体フォトリソ工程での洗浄やリンス、樹脂溶剤等にご使用いただけます。:0834-62-0997お問い合わせ製品詳細N-メチル-2-ピロリドンNMPレジスト・剥離液・ポリイミド関連製品の溶媒としてご使用いただけます。工業用TMAHテトラメチルアンモニウム=ヒドロキシド電子工業向け高純度薬品(ポジ型フォトレジスト用現像液)のTMAHを幅広い用途に展開するため、工業用グレードを開発しました。使用済みポジ型フォトレジスト現像液を原料として製造するため、電子工業用TMAHと比較し、お客様にコストメリットを提供します。