:光・電子ビーム等を利用して極微細加工を施し、デバイスを試作するために利用する。ウエハ両面へのソリグラフィー機能、極微加工を施した基板の接合により3次元的に極微加工パターンを形成し、新規な機能を有する材料、デバイスを試作するために使用する。マイクロ・ナノデバイス利用環境と条件:VBLの研究プロジェクト業務の遂行に支障のないこと。利用手続きと方法:・利用手続き...詳細は、施設長まで問い合わせること。・利用料金...別途とりきめ。制約...VBL利用手引きに従う。ReservedTOP。