»トランジスタのゲート、ソース、ドレインなどの電極を絶縁膜上に引き上げるため、絶縁膜に穴(コンタクトホール)を空け、W(タングステン)を埋め込みます。プラグタングステン埋め込み:穴にタングステン埋め込みます。プラグタングステン研磨:表面を研磨し余分なタングステン膜を除去し、穴の中だけにタングステンを残します。コンタクトホールレジストパターン形成コンタクトホールのレジストパターンを形成します。コンタクトホールエッチングコンタクトホールレジストパターンをマスクにエッチング処理をおこない、絶縁膜にコンタクトホールを形成します。エッチング後、レジストパターンは除去します。非常に小さくて深い(アスペクト比が高い)穴であるため、穴の径、深さの管理には細心の注意を払う必要があります。プラグタングステン埋め込みシリコンウェハー表面にCVD法でタングステン膜を形成し、コンタクトホールに埋め込みます。表面を研磨し、余分なタングステン膜を除去し、コンタクトホールの中だけにタングステンを残します。