»MOSトランジスタの三つの電極であるゲート(ポリシリコン)、ソース、ドレイン(シリコンウェハー)をシリサイド(金属との化合物)化することでこの後の金属配線との抵抗を下げます。それぞれの電極自体の抵抗を下げる効果もあります。サリサイド形成:薬品処理で選択的にコバルトだけを除去(自己整合でシリサイド形成)します。コバルト成膜(スパッタ)シリコンウェハー表面にをPVD法(スパッタ)でコバルト膜を形成します。シリサイドに用いる金属はコバルト以外にもニッケル、チタンなどがあります。表面にコバルト膜が乗ったシリコンウェハーを加熱すると、シリコンとコバルトの接している部分が、コバルトシリサイドに変化します。酸化膜上のコバルトはコバルトのままです。薬液処理で、選択的に酸化膜上のコバルトだけを除去します。ゲート、ソース、ドレイン上のシリサイドが残ります。Silicide)と言います。