photoresist光により耐食性のある膜を形成する感光材料で,一般には特定の機能をもつ感光性樹脂のこと。フォトレジスト皮膜は光の照射を受けると化学反応を起こして,露光した部分の樹脂が未露光部分と異なった性質になる。露光により現像液に溶解しやすくなるレジストをポジ型,溶解しにくくなるレジストをネガ型という。ポジ型レジストとしてはo-ナフトキノンジアジド化合物とノボラック樹脂との混合物,ネガ型レジストとしては重クロム酸塩/ポリビニルアルコール,ポリけい皮酸ビニル,多官能性アクリレート/合成高分子/光重合開始剤などがある。フォトレジストにはフィルム状のものと液状のものがあり,前者をドライフィルム,後者を液状レジストという。印刷版,プリント基板,IC・LSI(集積回路)などの電子部品の製作のためにつかわれている。