回路パターンの焼き付けを行う縮小投影露光機の空間分解能は顕微鏡と同様に波長に比例するため、半導体素子の微細化に伴って波長13.5nmや波長6.xnmの極紫外*7/軟X線を利用する研究・開発が行われている。図6に波長13.5nmの半導体露光機の概念図を示す。レーザー生成プラズマ光源から出た極紫外線を、集光光学系で集めて反射型のマスク(回路パターンの原版)を照明し、反射してきた回路パターンを6枚の反射鏡から成る極紫外光学系によりウェハー上に縮小投影し、焼き付ける。波長30nm~数nmの波長の光のこと。軟X線を半導体露光機に応用する際に使用する波長域をこのように呼ぶ。できる「反射多層膜鏡」を利用する波長域を指す。Reserved.ページのトップへ。