MicroTec社が、Rolith社からの独占的実施権の下において、第2世代にあたるナノ構造形成装置「RML-2」の試作機開発に成功したことを発表しました。呼ばれる画期的なナノリソグラフィー方式を基にしています。0.3m以内)にナノ構造を効率的かつ安価に製造できるようになります。この高スループット/低コスト・ナノパターニング技術を利用することで、再生可能エネルギー、電子機器、グリーン建築市場分野における製品の性能改善や新商品の開発が可能になります。RML技術で可能になる高度な製品の例としては、高変換効率ソーラー・パネル、高輝度LED、映り込みのない携帯電話やTVディスプレイ、低放射ガラス窓があります。Rolith社は円筒形で回転可能なマスクと近接場光学リゾグラフィーを用いた特許技術を有しています。マスクは、Rolith社が、それぞれの顧客のアプリケーションに合わせてカスタマイズしたものを提供することが可能です。準波長領域の分解能は位相シフト干渉効果やプラズモン増強構造を使うことで実現されています。ローリングマスク・リゾグラフィーを連続運転することで低コスト/高スループットの加工技術ができる可能性を秘めています。RML-2ツールは、2011年に製造された第1世代の生成ツール(RML-1)で初めて実証された性能を更に高めたものです。RML-2は、コンベアーのような基板搬送機能を装備し、1m長のガラス基板や、複数の小さなガラス基板、または半導体ウエハを処理できます。RMLプロセスは基板表面の凸凹にも許容性が高く、建築用ガラスやLED用サファイアウエハの処理にも対応できます。RML-2ツールは、現在、カリフォルニア州プレザントンにあるRolith社及び、東京の旭硝子のR&D施設において、納品されています。Rolith社では引き続き、ナノ構造技術を様々な分野へ応用し、商業化するための更なる共同開発パートナーを募っています。Kobrin博士は、次のように述べています。「我々は当社の新しいリソグラフィー・コンセプトの開発が進展したことを非常に嬉しく思っています。Averdung氏は次のように述べています。「Rolith社の革新的光ナノリソグラフィーと当社の装置開発ソリューションを組み合わせることにより、微小構造を形成できるようになりました。寛氏は、次のように述べています。ナノ構造を大面積に形成し、多様な市場に向けた活用が可能となります」Rolith社についてRolith社は、独自のナノリソグラフィー技術を使用してコンシューマーエレクトロニクスやグリーンテクノロジー向けのナノパターン加工技術/製品を開発しています。Zegelmanの3人で創業され、現在カリフォルニア州プレザントンに拠点を置いています。ナノリソグラフィー、薄膜形成、エッチング、ナノフォトニック・デバイスの分野において包括的な特許ポートフォリオを持っています。AGや旭硝子株式会社など戦略的パートナーと開発を進めています。よって構成されています。社は半導体および関連デバイス市場に向けた微細構造形成用ウエハプロセス装置及びプロセスソリューションのリーディングサプライヤーです。製造におけるキープロセスと目される、3次元構造形成やナノインプリントなど次世代技術の開発を進めています。台を超える装置を全世界に設置しており、グローバルな体制でサービス、アプリケーションをサポートしております。