波長172nm~126nmの真空紫外光を照射することにより、窒素含有気体が分解されて被膜形成基板Kの表面に吸着される。被膜形成基板K表面に吸着した気体分子に真空紫外光を照射することによって表面反応が発生して被膜形成基板K表面が窒化される。真空紫外光を照射することで被膜形成基板表面を窒化することができるので、基板を加熱したり、プラズマを発生させる必要が無くなる。この結果、基板にダメージを与えることなく基板の最表面を窒化することができる。この被膜窒化方法では、窒素含有気体としてアンモニアを使用でき、真空紫外光により分解されるアンモニアを利用して被膜形成基板の窒化を行うことができる。窒素含有気体を分解、吸着するための真空紫外光として、126nmの真空紫外光を使用すると共に、表面反応を生じさせるための真空紫外光として172nmの真空紫外光を使用する。これにより、効率よく分解、吸着および表面反応を行うことができ、窒化の効率を高めることができる。窒化を行うので、基板にダメージを与えることなく基板の最表面を窒化させることができる。