フォトレジストフォトレジスト半導体などの回路パターンを、シリコンウエハー上に描画する工程で用いる、感光性の樹脂です。シリコンウエハーの表面に塗布したレジストに、回路パターンを描いたフォトマスクを通した光を照射反応させることにより、回路パターンを形成させます。当社のフォトレジストは、i線からKrF、ArF、EUV光源を用いた最先端のリソグラフィ技術に対応した製品です。微細加工プロセスで用いられるレジスト用塗布型の中間・下層膜材料もご提供しております。