◇デュアルパージシステムによる効率的な排出フロー制御2種類のパージガス制御によって、残留しやすい昇華原料を効率的に配管内から排出します。原料や反応ガス供給部の装置構成を組み替える事で多品種・複合膜のALD成膜が可能。◇配管ラインを個別温度コントロールすべての配管は個別に温度管理され、配管内壁に原料が堆積する事を防止します。製品・サービスの詳細ALD(AtomicLayerDeposition)は原子層堆積法と呼ばれ、単原子層を1層ずつ堆積するサイクルを繰り返すことで薄膜を形成する成膜技術です。MEMSをはじめとする高アスペクト比の3次元構造に対しても回り込み良く、ピンホールのない均一な薄膜が形成可能です。