検査装置は、忠実な空間像と先進の高精細画像を独自に組み合わせた第4世代の193nmベースの検査装置です。最新リソグラフィーグレードのレンズを備えたAera4システムでは、標準の高解像度アプリケーションおよび空間検査の双方においてSN比が向上し、1xnmのテクノロジーノードと初期生産におけるEUVマスク検査に最適な装置となっています。技術に要求される極めて高感度のマスク検査を実行します。スキャナにエミュレートするように設計されたAera4システムは、インバースリソグラフィーなど高度な光近接補正を含む最先端のマスクにおいて、他の高解像度検査装置よりも優れた初回検査成功率を提供します。転写または非転写欠陥として本来の自動欠陥分類と組み合わせ、同システムはマスクメーカーがArF技術を次世代のノードへと展開することを可能にします。工場において、Aera4システムは初期段階のヘイズ欠陥検査から193nmの露光条件劣化モニタリングまで、すべてのマスク検査に対応します。IntenCDTMは検査と同時にマスク全体で重要なCD均一性マッピングも可能にします。これらの能力により、同システムはマスク寿命を延ばし、マスクにかかるコストの削減を実現します。Reserved.[+]。