日常をブログに綴ります。み「パターニングデバイスを、能動的に曲げる」???今回の疑問はこちらです。支持構造MTは、パターニングデバイスMAを能動的に曲げることを可能にするパターニングデバイスホルダ、機構及び/又はステージ本体を備えることができる。【図】これまでの流れから、「パターニングデバイス」は、「パターン転写用の原版」と分かりました。いうことは、「パターニングデバイスホルダ」が、「マスクホルダ」と同じような意味で使われていると想像できます。疑問しかし、「どうしてパターニングデバイスMAを能動的に曲げる必要があるの?」との自問をしても、答えられませんでした。検索しましたが、明確な答えが見つからず、どうしようかと思っていたところ、明細書内の一文に目が留まりました。US2013/0250271A1号及びUS2016/0011525A1号に開示されている。これらは引用により本願にも含まれるものとする。引用されているのなら、その特許を調べればいいんだ。いうことで、引用されている特許を見つけ出し、その明細書内でみつけた一文がこちらです。“abandoned”になっていたせいか、見つけることができませんでした。露光が原因でレチクルに熱歪みが生じる恐れがあり、この熱歪みを補正するためにもレチクルを曲げることが望ましいということが分かります。対訳中の明細書の先まで読み進むと、下記の文章が出てきました。(すなわち、基板W上に投影されたパターンの空間像)の光学特性は、透過マスク、透過レチクル、又は反射マスクを能動的に曲げることによって制御することができる。ここに、マスクやレクチルを曲げることで、光学特性を制御することができると書かれていました。疑問の答えレチクルに光を当てることで、熱歪みが生じる恐れがある↓この熱歪みを補正するためにも、レクチルを曲げられるようにすることが望ましい↓マスクやレチクルを曲げられるマスクホルダ/メカニズム/ステージ本体を持つ支持構造にすることで、パターンの空間像をコントロールできる上記の疑問に関しては、自分なりに答えが出せたと思います。実は、明細書内で、このすぐ前に書かれていた文章というのが、こちらになります。reticle.【公開訳文】パターニングデバイスMAは、マスク又はレチクルと呼ぶことができる。なんでこの明細書は、「パターニングデバイス」などと記載をせずに、最初からマスクやレチクルと称さないんだ?「代替的にマスクやレチクルと呼ばれる」とわざわざ記載する意味は何なんだ?と、変なところで疑問が残りました。ここまで理解するのに、検索でかなりの無駄打ちをしましたが、検索中にいろいろな知識が得られたので、結果オーライだと思っています。今回学んだことは2つ。1.明細書はざっとでもいいから、最初に全て読んでおく。同じ明細書内にいろいろとヒントは転がっている(こともある)。2.引用されている明細書にも目を通した方が、流れがつかみやすい。コメントをキャンセルメールアドレスが公開されることはありません。付いている欄は必須項目です次回のコメントで使用するためブラウザーに自分の名前、メールアドレス、サイトを保存する。