[0001]【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係り、いわゆる横電界方式と称される液晶表示装置に関する。[0002]【従来の技術】いわゆる横電界方式と称される液晶表示装置は、液晶を介して互いに対向配置される各透明基板のうち一方の透明基板の液晶側の面に画素電極と基準電極とが形成され、この画素電極と基準電極との間を透過する光の透過率を、該画素電極と基準電極との間に発生する電界による該液晶の分子の捻じれによって制御する構成となっている。electrode.【0003】このことから明らかなように、液晶の分子の捻じれは透明基板とほぼ平行に発生する電界成分によってなされ、この種の液晶表示装置がいわゆる横電界方式と称される所以となっている。there.【0004】このような液晶表示装置は、その表示面に対して大きな角度視野から観察しても鮮明な映像を認識でき、いわゆる広視野角に優れたものとして知られるに到っている。surface.【0005】そして、液晶内に発生する電界の透明基板とほぼ平行に発生する成分を大きくかつ均一にするためには、液晶の層厚も関係してくることから、該液晶の層厚を一定に設定することが重要となってくる。in.【0006】このため、互いに対向配置される各透明基板の間には、液晶とともにたとえばビーズ状の同径のスペーサ材が多数散在されて配置されている。number.【0007】そして、このようなスペーサ材は、2枚の透明基板を組み合わせる前の工程で少なくとも一方の基板上に散在されており、該透明基板の間に介在されるようになっている。[0008]【発明が解決しようとする課題】しかし、このような構成からなる液晶表示装置は、その輸送を前提とした振動試験によって、透明基板の間のスペーサ材が移動し、これによって表示むらが生じることが確認された。confirmed.【0009】すなわち、振動試験によって、互いに対向する各透明基板が振動し、それにともなって液晶が流動してしまい、該スペーサが移動し、その移動軌跡に対応する配向膜の部分にその配向状態の変化が生じてしまうからである。occurs.【0010】本発明は、このような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、スペーサ材の移動による表示むらを防止した液晶表示装置を提供することにある。typical,以下のとおりである。液晶を介して互いに対向配置される各透明基板のうち一方の透明基板の液晶側の面に画素電極と基準電極とが形成され、この画素電極と基準電極との間を透過する光の透過率を、該画素電極と基準電極との間に発生する電界による該液晶の分子の捻じれによって制御する液晶表示装置において、前記透明基板のそれぞれの間にスペーサ材が介在され、このスペーサ材は、一方の透明基板側の前記液晶に接触される配向膜の下層の絶縁膜に固定されて配置されていることを特徴とする液晶表示装置。side.【0013】このように構成された液晶表示装置は、透明基板の間に介在されるスペーサ材が一方の透明基板側に固定されていることから、該スペーサ材の移動を防止することができるようになる。become.【0014】そして、該スペーサ材は配向膜の下層の絶縁膜に固定された構成となっており、該配向膜に被われて固定された構成となっている。layer.【0015】これは、スペーサ材にも配向膜が被われる構成とすることにより、該スペーサ材の周囲における液晶の配向の状態の変化を大きくさせないことにある。member.【0016】また、スペーサ材を配向膜に固定させる場合、該スペーサ材の表面に固着処理を付与させなければならない等の煩雑な作業を回避できる構成となっている。member.【0017】すなわち、スペーサ材を絶縁膜に固定させる場合には、たとえば絶縁膜の硬化前にスペーサを散在させ、硬化過程での適当な加熱を施すことにより、該絶縁膜に強固に固定できるからである。手段1の構成において、前記スペーサは、各透明基板のうち他方の透明基板の液晶側の面に前記液晶に接触される配向膜の下層の絶縁膜に固定されていることを特徴とするものである。there.【0019】このように構成された液晶表示装置は、一対の透明基板のうち、特に画素電極および基準電極が形成されていない側の透明基板に、スペーサ材が固着された構成となっている。fixed.【0020】該各電極が形成されていないことによって、液晶と接触するようにして形成されなければならない配向膜の下層には、通常絶縁膜が形成されていることから、特に他の部分の構成を変更することなく、即、この絶縁膜に固着できる構成とすることができるようになる。film.【0021】たとえば、スペーサ材を固着させる側の透明基板に電極(通常、配向膜の下層に形成される)が形成されていた場合、該電極は、絶縁膜の下層に形成する等の変更設計をしなければならず、この結果、該電極と他の電極との間の電界は該絶縁膜を介して発生され、液晶に影響を及ぼす電界の強度が弱まるという弊害をもたらすことになる。weakened.【0022】なお、ここでいう絶縁膜は、ブラックマトリックス層、カラーフィルタ等の他の絶縁膜を含む概念である。手段2の構成において、前記絶縁膜は、ブラックマトリックス層およびカラーフィルタを被う平坦膜であることを特徴とするものである。filter.【0024】このように構成された液晶表示装置は、ブラックマトリックス層とカラーフィルタとの一部の重畳された配置により形成される段差を該平坦膜によってその表面に顕在化されることのない構成となっている。become.【0025】このため、スペーサ材の平坦膜面における散在配置を均一化させることができるとともに、該平坦膜面における固着も均一化させることができる。よる液晶表示装置の実施例を図面を用いて説明をする。2は、本発明による液晶表示装置の一実施例を示す回路図である。invention.【0028】まず、いわゆるアクティブ・マトリックス型の液晶表示パネル300がある。この液晶表示パネル300は、その表示部がマトリックス状に配置された複数の画素の集合によって構成され、それぞれの各画素は、該液晶表示パネルの背部に配置されたバックライトユニット(図示せず)からの透過光を独自に変調制御できるように構成されている。1A、1Bと平行になるようになっている。1B.【0030】このような液晶表示パネル300は、その表示面に対して大きな角度視野から観察しても鮮明な映像を認識でき、いわゆる広視野角に優れたものとして知られている。surface.【0031】すなわち、この液晶表示パネル300の液晶を介して互いに対向配置される透明基板1A、1Bのうち一方の透明基板1Aの液晶側の面に、そのx方向(行方向)に延在しy方向(列方向)に並設される走査信号線2および基準信号線4とが形成されている。direction).【0032】この場合、同図では、透明基板1Aの上方から、走査信号線2、この走査信号線2と近接された基準信号線4、この基準信号線4と比較的大きく離間された走査信号線2、この走査信号線2と近接された基準信号線4、...というように順次配置されている。forth.【0033】そして、これら走査信号線2および基準信号線4とそれぞれ絶縁されてy方向に延在しx方向に並設される映像信号線3が形成されている。formed.【0034】ここで、走査信号線2、基準信号線4、および映像信号線3のそれぞれによって囲まれる矩形状の比較的広い面積の各領域において単位画素が形成される領域となり、これら各単位画素がマトリックス状に配置されて表示面を構成するようになっている。この画素の詳細な構成は以下に詳述する。below.【0035】そして、液晶表示パネル300には、その外部回路として垂直走査回路5および映像信号駆動回路6が備えられ、該垂直走査回路5によって前記走査信号線2のそれぞれに順次走査信号(電圧)が供給され、そのタイミングに合わせて映像信号駆動回路6から映像信号線3に映像信号(電圧)を供給するようになっている。7から電源が供給されているとともに、CPU8からの画像情報がコントローラ9によってそれぞれ表示データ及び制御信号に分けられて入力されるようになっている。7から基準信号(たとえば一定電圧)が供給されるようになっている。supplied.【0038】《画素構成》図3は、前記単位画素の一実施例を示す平面図である(図2の点線で囲んだ領域に該当する)。3に、V−V線における断面図を図5に、VI−VI線における断面図を図6に示している。1A,x方向に延在する基準信号線4と、この基準信号線4と(−)y方向に比較的大きく離間されかつ平行に走査信号線2が形成されている。formed.【0040】ここで、基準信号線4には、3本の基準電極14が一体に形成されている。そのうちの2本の基準電極14は、一対の後述する映像信号線3とで形成される画素領域のy方向辺、すなわち前記それぞれの映像信号線3に近接して(−)y方向に走査信号線2の近傍にまで延在されて形成され、残りの1本はそれらの間に形成されている。6)が形成されている。TFTの形成領域に対してはゲート絶縁膜として、蓄積容量Cstgの形成領域に対しては誘電体膜として機能するようになっている。16が形成されている。この半導体層16はたとえばアモルファスSiからなり、走査信号線2上において映像信号線3に近接された部分に重畳して形成されている。TFTのゲート電極を兼ねた構成となっている。of.【0043】そして、このようにして形成された絶縁膜15の表面には、図3に示すように、そのy方向に延在しx方向に並設される映像信号線3が形成されている。.【0044】そして、映像信号線3は、薄膜トランジスタTFTの前記半導体層16の表面の一部にまで延在されて形成されたドレイン電極3Aが一体となって備えられている。manner.【0045】さらに、画素領域における絶縁膜15の表面には画素電極18が形成されている。18は前記基準電極14の間を走行するようにして形成されている。画素電極18の一端は前記薄膜トランジスタTFTのソース電極18Aを兼ね、そのまま(+)y方向に延在され、さらに基準信号線4上に沿ってx方向に延在された後に、(−)方向に延在して他端を有するコ字形状となっている。direction.【0046】この場合、画素電極18の基準信号線4に重畳される部分は、前記基準信号線4との間に誘電体膜としての前記絶縁膜15を備える蓄積容量Cstgを構成している。この蓄積容量Cstgによってたとえば薄膜トランジスタTFTがオフした際に画素電極18に映像情報を長く蓄積させる効果を奏するようになっている。off.【0047】なお、前述した薄膜トランジスタTFTのドレイン電極3Aとソース電極18Aとの界面に相当する半導体層16の表面にはリン(P)がドープされて高濃度層となっており、これにより前記各電極におけるオーミックコンタクトを図っている。高濃度層をエッチングするようにして上記の構成とすることができる。6)が形成され、この保護膜19の上面には配向膜20が形成されて、液晶表示パネル100の透明基板1Aを構成している。この透明基板1Aの液晶層側と反対側の面には偏光板21が配置されている。1A.【0049】そして、透明基板1Bの液晶側の部分には、図4に示すように、表示領域を各画素毎に区分してブラックマトリックス層22が形成されている。TFTへ直接光が照射されるのを防止するための機能と表示コントラストの向上を図る機能とを備えるものとなっている。このブラックマトリックス層22は、図3の破線に示す領域に形成され、それに形成された開口部が実質的な画素を構成するものとなっている。pixel.【0050】さらに、ブラックマトリックス層22の開口部を被ってカラーフィルタ23が形成され、このカラーフィルタ23はx方向に隣接する画素領域におけるそれとは異なった色を備えるとともに、それぞれブラックマトリックス層22上において境界部を有するようになっている。like,この平坦膜24の表面には配向膜25が形成されている。この透明基板1Bの液晶層側と反対側の面には偏光板26が配置されている。1B.【0051】ここで、透明基板1A側に形成された配向膜20と偏光板21、透明基板1B側に形成された配向膜25と偏光板26との関係を図7を用いて説明する。25のいずれのラビング方向208の角度はφLCとなっている。219の角度はφPとなっている。他方の偏光板26の偏光透過軸は、φPと直交している。φLC=φPとなっている。液晶層LCとしては、誘電率異方性Δεが正でその値が7.3(1kHz)、屈折率異方性Δnが0.073(589nm、20°C)のネマチック液晶の組成物を用いている。relationshipと偏光板21、26等の構成は、いわゆるノーマリブラックモードと称されるもので、液晶層LC内に透明基板1Aと平行な電界Eを発生せしめることにより、該液晶層LCに光を透過するようになっている。この実施例では、このようなノーマリブラックモードに限定されるものではなく、無電界時に液晶層LCを透過する光が最大となるノーマリホワイトモードであってもよいことはいうまでもない。1は、液晶表示パネルの全体断面を示す構成図である。この図面の一画素に相当する断面図が前記図4に相当する。4.【0055】図1では、特に、各透明基板1A、1Bの間に複数の同径のスペーサ材30が散在されて介在されていることを示している。上述したように、このスペーサ材30によって各透明基板1A、1Bの間隔、ひいては液晶LCの層厚を規制するようになっている。LC.【0056】ここで、スペーサ材30はたとえばビーズ状をなし、ポリマーであるジビニルベンゼン、スチレン等の材料から構成されている。formedと異なる他方の透明基板1B側の平坦膜24に固定されて形成されている。スペーサを散在させ、硬化過程での適度な加熱を施すことにより、該平坦膜24に強固に固定させる方法等が用いられる。24は、該スペーサ材30の表面をも被って形成されるようになっている。30.【0060】これにより、たとえば、平坦膜24の表面の全域に配向膜25が形成され、この配向膜25にスペーサ材30が当接されている従来の構成と比較して、スペーサ材30の近傍における液晶の配向性が向上することが確認されている。in.【0061】このように構成された液晶表示装置は、透明基板1A、1Bの間に介在されるスペーサ材30が一方の透明基板(実施例では、透明基板1B)側に固定されていることから、該スペーサ材30の移動を防止することができるようになる。30.【0062】そして、該スペーサ材30は配向膜25の下層の平坦膜24に固定された構成となっており、該配向膜25に直接固定されていない構成となっている。25.【0063】これは、スペーサ材30にも配向膜25が被われる構成とすることにより、該スペーサ材30の周囲における液晶の配向の状態の変化を大きくさせないことにある。30.【0064】また、スペーサ材30を配向膜25に固定させる場合、該スペーサ材30の表面に固着処理を付与させなければならない等の煩雑な作業を回避できる構成となっている。30.【0065】すなわち、スペーサ材30を平坦膜24に固定させる場合には、たとえば平坦膜の硬化前にスペーサを散在させ、硬化過程での適当な加熱を施すことにより、該平坦膜24に強固に固定できるからである。fixed.【0066】上述した実施例では、スペーサ材30を平坦膜24に固定させた構成としたものであるが、平坦膜24の存在しない液晶表示装置にも適用できることはいうまでもない。22、およびカラーフィルタ23を被って配向膜25が形成されることになる。formed.【0068】このようにした場合においても同様の効果が得られるからである。1Bの縁に沿ってシール剤40が形成され、そのシール剤の一部に形成された開口部から液晶が封入されるようになっている。1Bのうち、画素電極18および基準電極14が形成されていない側の透明基板1Bの製造方法の一実施例を示す工程図である。formed.【0071】以下、工程順に説明する。該合成樹脂層22Aの表面の全域にフォトレジスト膜を塗布し、フォトリソグラフィ技術によりブラックマトリックス層の形成領域に相当する領域のみに該フォトレジスト膜を残存させ、他を除去する。Remove.【0074】さらに、残存されたフォトレジスト膜をマスクとして、このフォトレジスト膜から露出された前記合成樹脂層22Aをエッチングする。film.【0075】そして、マスクとなったフォトレジスト膜を除去することにより、所定のパターンのブラックマトリッスク層22を得ることができる。次に、ブラックマトリックス層22をも含んで、透明基板1Bの表面の全域にたとえば赤色(R)の顔料が含有された合成樹脂層を形成する。(R).【0077】そして、この合成樹脂層の表面の全域にフォトレジスト膜を塗布し、フォトリソグラフィ技術によりカラーフィルタ(R)の形成領域に相当する領域のみに該フォトレジスト膜を残存させ、他を除去する。to.【0078】さらに、残存されたフォトレジスト膜をマスクとして、このフォトレジスト膜から露出された前記合成樹脂層をエッチングする。film.【0079】そして、マスクとなったフォトレジスト膜を除去することにより、所定のパターンのカラーフィルタ層23Rを得ることができる。その後は、緑色用のカラーフィルタ層23Gを上述したと同様の工程で形成し、また、青色用のカラーフィルタ層23Bを上述したと同様の工程で形成する。23をも含んで、透明基板の表面の全域に平坦膜24を形成する。2膜、SiN膜等であってもよく、また、塗布工程等で形成された合成樹脂層であってもよい。平坦膜24の表面にスペース材30を散在させる。