(1b).(JA)ウェハ(3)が配置される処理チャンバ(4)と、処理チャンバ(4)内に設けられるシャワーヘッド(1)を備えるオゾン処理装置(2)である。シャワーヘッド(1)を、ウェハ(3)の被処理面から離れた位置であって、ウェハ(3)と向かい合うように備える。シャワーヘッド(1)のウェハ(3)と向かい合う面に、ウェハ(3)に供されるガスが噴き出すガス噴出穴(1a)と、ガスが噴き出さない領域である排出ガス流路部(1b)を設ける。シャワーヘッド(1)の中心部にガス噴出穴(1a)が形成される領域を設け、この領域からシャワーヘッド(1)の外周方向に延びる排出ガス流路部(1b)をシャワーヘッド(1)の周方向に並べて複数配置する。この排出ガス流路部(1b)に挟まれた領域にそれぞれガス噴出穴(1a)を形成する。