本発明は、精密位置決め装置に応用されて好適なステージ装置、詳しくは、加減速期間中に第1駆動手段とを第2駆動手段と相互に関連付けて動作させることにより、テーブル移動の高速化を図る、また、テーブルに生じる振動を抑制することにしたステージ装置に関する。露光装置を含む半導体製造装置、レーザ光を用いた精密計測器、あるいは精密工作機械等に採用されるステージ装置、すなわち、半導体ウェハ等の被加工片を載せたテーブルを移動して、所定の位置に位置決めし停止させる装置に対して、近年ますます、高能率かつ高精度な動作が要求されている。この種のステージ装置は、一般的に、テーブルを含む被加工片の支持機構と、テーブルの駆動機構とからなる独自の振動系を形成し、テーブル停止時(減速時)に発生する振動が位置決めの能率と精度を損なわせる重要な課題とされ、該振動系の動特性改善が望まれている。desired.第7図は、このような従来のステージ装置を模式的に示したものである。本従来例は、被加工片を載置するテーブル20を送りネジ23により駆動して、基盤22に対する位置決めを行うステージ装置である。22.第7図において、テーブル20は、ニードルベアリングを配列させたガイド機構21により、左右方向(X方向とする)へ直線移動可能に支持され、この軌道に平行に設けた送りネジ23を介して、モータ24により駆動される。24.また、基盤22側のレーザ干渉計25とテーブル20の端部に設けられた反射器(平面鏡)26とにより、基盤22上にはテーブル20駆動用の座標軸xが形成されて、座標軸x上におけるテーブル20の位置xが精密に計測される。0と一致するように、モータ24を作動する。24.しかし、ここで、テーブル20は、送りねじ23の弾性力とガイド機構21の減衰力とで支持された振動系を形成しており、テーブル20の減速と停止に伴って生じる慣性力により、テーブル20には減衰振動が発生する。Therefore,モータ24停止後この振動が減衰して、テーブル20が完全に停止した後でないと次の動作(例えば加工)にを取り掛かれず、この減衰待ち時間が位置決めの能率を低下させていた。20)の質量を小さく採って振動系の振動エネルギを小さくするとともに、ガイド機構21に使用する潤滑油の粘性も高く採って、振動の速やかな減衰を得るようにしている。24停止時刻とテーブル20停止時刻は一致しない。0と一致せず偏差Δxが発生し、この偏差Δxにより位置決め精度が悪化している。portion,モータ24に対するテーブル20の応答性を高めるようにしている。ところで、偏差Δxを小さくするために、上述のようにモータ24に対するテーブル20の応答性を高めると、テーブル20停止時に発生する振動の減衰力が不足するから、減衰待ち時間が伸びるという問題が発生する。逆に、振動の減衰を優先すると、モータ24に対するテーブル20の応答性を損ねることとなり、テーブル20停止時の偏差Δxが拡大されてしまう。従って、ますます高まる位置決めの能率と精度の両方の改善に対して、上述のような方法だけで対処するには限界があり、困難な課題とされていた。task.そこで、ガイド機構21の減衰力を加味して求めた、テーブル20の最適な減速曲線に基いてモータ24を制御することによって、停止時の振動を極小化する試みが行われた。ガイド機構21に採用されたニードルベアリングは、個別の製品間、またはその全長に渡るニードルの加工誤差や潤滑条件差を含むから、これの減衰力も大きくばらつき、正確な数値化、代表値化は不可能であり、実際の効果も再現性に欠けるものであった。reproducibility.本発明は、以上のような課題を鑑みてなされたもので、加減速期間中に第1駆動手段と第2駆動手段とを相互に関連付けて動作させることにより、テーブル移動の高速化を図ることができるステージ位置、およびテーブルに生じる振動を抑制できるステージ装置を提供することを目的としている。請求項1記載の発明では、テーブル(1)と、テーブル(1)に駆動力を与えてテーブル(1)を所定方向(X)に駆動する第1駆動手段(6X)と、第1駆動手段(6X)によりテーブル(1)を加速または減速の少なくともいずれか一方を行う際に、テーブル(1)に駆動力を与えるための第2駆動手段(3X)とを備え、第1駆動手段(6X)と第2駆動手段(3X)が、互いに並列にテーブル(1)に駆動力を与えるステージ装置を提供する。other.また、請求項2記載の発明では、請求項1記載のステージ装置において、テーブル(1)の所定方向(X)の位置を測定する位置計測手段(8X)を設けた構成とした。(8X).また、請求項3記載の発明では、請求項1記載のステージ装置において、第2駆動手段(3X)をリニアモータとした。motor.また、請求項4記載の発明では、請求項1記載のステージ装置において、第2駆動手段(3X)がテーブル(1)に駆動力を与えることにより、テーブル(1)の停止時に生じる振動を抑制するように構成した。to.また、請求項5記載の発明では、請求項1記載のステージ装置において、第1駆動手段(6X)がテーブル(1)を減速させる最中に、第2駆動手段(3X)によりテーブル(1)に駆動力を与える構成とした。(1)に駆動力を与える構成とした。to.また、請求項7記載の発明では、請求項1記載のステージ装置において、テーブル(1)の所定方向(X)を含む平面内で回転する回転量を計測する回転量計測手段を設け、第2駆動手段(3X)がテーブル(1)に生じる前記回転量に前記駆動力を与えるように構成した。(1).また、請求項8記載の発明では、請求項1記載のステージ装置において、第2駆動手段(3X)が、所定方向(X)に沿ってほぼ平行に所定間隔をあけて配置された二組のリニアモータを有する構成とした。motor.また、請求項9記載の発明では、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のステージ装置において、テーブル(1)が非接触式のガイド機構を有する構成とした。(1)を所定方向に駆動する第1駆動手段(6X)と、テーブル(1)の位置を測定する位置計測手段(8X)と、テーブル(1)に対し、第1駆動手段(6X)による第1の駆動力と並列に第2の駆動力を与える第2駆動手段(3X)とを備え、第2駆動手段(3X)が、第1駆動手段(6X)が前記駆動を停止した後に、位置計測手段(8X)の計測結果に基づいてテーブル(1)に前記第2の駆動力を与えることでテーブル(1)を目標位置に位置決めするステージ装置を提供する。110までのいずれか一項に記載のステージ装置を備える半導体露光装置を提供する。本発明のステージ装置においては、第2駆動手段として、例えばリニアモータ機構が付加されており、テーブルの加減速期間中に第1駆動手段の駆動力にリニアモータによる駆動力を加えることができる。加速期間においては大きなトルク等を得ることができステージの高速化を実現できる。減速期間においてはテーブルに生じる振動等をリニアモータ機構で相殺、抑制、または減衰することにより、テーブル停止時の振動エネルギを減少させることができる。従来例の装置では駆動軸に発生する加振力に対して受動的な減衰力(該加振力よりもはるかに小さい)しか作用しなかったのに対し、リニアモータ機構による動的かつ積極的に定められた減衰力が作用する。apparatus,エアベアリングのような非接触式とすれば、テーブルの運動に対するガイド機構の影響が排除されて、テーブルに作用する力は、電気的、数値的に制御が容易な駆動軸からのものと、高精度かつ高応答性な制御が容易なリニアモータ機構からのものとに単純化されるから、制御の再現性が向上する。control.また、接触式のガイド機構においては、不安定な摩擦が存在してテーブルをずれた位置に停止させるから、ずれを小さくするためにはテーブルの駆動力を大きくする必要がある。ニードルベアリング等の通常のガイド機構の粘性は極めて小さいために、駆動力の増大はテーブルを振動的にし、非接触式のガイド機構を用いた場合と同様の現象を発生する。従って、ニードルベアリング等の接触式のガイド機構を採用したステージ装置においても、非接触式の場合と同様に、駆動軸とリニアモータ機構とを相互に関連付けて制御するようにした効果的な減速プログラムを実行することができる。言い換えれば、接触式のガイド機構による不安定な摩擦力や粘性力を無視できるようなレベルで駆動軸およびリニアモータを関連付けて駆動して、テーブルの加振力を停止までに極小化してしまう。これにより、テーブルの振動を抑制しながらもテーブルの駆動力を大きく採ることができ、目標位置からの停止位置のずれも小さくできる。program)に基いて、第1駆動手段および第2駆動手段を制御する。従来、加振力が大きくて採用できなかった大きな減速加速度をテーブルに駆動軸を介して付与しつつ、駆動軸のばね力とテーブル質量とから定まる振動系の固有周波数を共有する加振力と逆位相の駆動力をリニアモータ機構に発生させる。これにより、大きな減速加速度とテーブル停止時の振動抑制とを同時に達成できる。リニアモータが駆動軸よりも精密な制御が可能であることを利用して、駆動軸の駆動を単純な減速とし、これに対してリニアモータにより刻々の速度に比例した減衰力、すなわち模擬的な粘性抵抗を与えるようにしてもよい。resistance.減速プログラムは、停止目標位置を原点とした座標上でのテーブル位置に応じた、駆動軸とリニアモータの駆動力曲線として、数学的または実験的に定めることができる。従って、ここでは、テーブルの振動を検出して刻々リニアモータ機構の制御にフィードバックする場合のような複雑な計測系や制御系を必要としない。table.一方、減速プログラム終了時には、駆動軸の駆動力は0となるが、リニアモータの駆動力は残っていてもよい。この駆動力は駆動軸に対するバイアス力として作用し、テーブルの遊びを1方向に吸収させることができる。direction.ガイド機構や駆動軸に関する摩擦力の不安定な要素を減速プログラムに織り込んでその最適化を図るには、走行実験と駆動プログラム修正を繰り返すことが不可欠である。μm程度)を、リニアモータによるテーブルの強制的な移動(このとき駆動軸またはガイド機構が弾性変形する)により吸収する。ここで、第1検出部は実際のテーブル停止位置を検出し、第1修正手段は、計測された停止位置を目標位置から差引いた偏差量に基いてリニアモータの駆動力を演算し、実行する。.例えば、駆動軸を弾性体とみなし、リニアモータの駆動力を徐々に高め、望みの移動量に相当する弾性ひずみを駆動軸に準静的に発生させる。shaft.また、本発明のステージ装置においては、停止したテーブルの姿勢の回転偏位量(ヨーイング量)を、2本のリニアモータを用いたテーブルの強制回転(このとき駆動軸またはガイド機構は弾性的に曲げ変形する)により吸収する。ここで、第2検出器はテーブルのヨーイング量を計測し、制御手段は、検出されたヨーイング量に基いて2本のリニアモータをそれぞれ別方向に駆動する。図面を参照して本発明の実施例を説明する。described.第1図は、本発明の第1実施例のステージ装置の斜視図である。これは、x軸方向に移動可能なステージ装置をy軸方向に移動可能なステージ装置に組合せた、水平面内で自在な方向に移動可能なステージ装置である。従って、ここでは、テーブル1をX方向に駆動する機構(Xテーブル2x〜9x)とy方向に駆動する機構(Yテーブル2y〜9y)とは同一の構成とみなし、第2図を参照してXテーブル2x〜9xについてのみ説明する。2x~9x.第2図は、本発明の第1実施例のステージ装置の側面図である。invention.第2図において、テーブル1は、非接触方式のガイド機構(エアベアリング等)2xで支持されるとともに、リニアモータ(固定子3xおよび可動子4x)と送りネジ6xとによってX方向へ駆動される。.また、送りネジ6xとリニアモータ(3x、4x)は、テーブル1停止時の振動抑制を目的として、後述するような相互に関連付けて予め定めた所定の駆動条件(プログラム)に従って、制御器10により作動される。停止後、制御器10は、リニアモータ(3x、4x)でテーブル1を付勢して、送りネジ6xを弾性範囲内で伸縮させることにより、干渉計8xにより測定された停止位置と目標位置との間の誤差量(偏差Δx)を補正する。trackにより、また、リニアモータ(3x、4x)により、直接的に駆動される。ここで、リニアモータ(3x、4x)は、テーブル1側の可動子3xと基板5x側の固定子4xとからなり、固定子4x側の磁界を移動させてテーブル1の駆動を行うものである。基板5x側のレーザ干渉計8xとテーブル1の端部に設けられた移動鏡としての反射器(平面鏡)9xとにより、基板5x上にはテーブル1駆動用の座標軸xが形成されることになり、この座標軸x上におけるテーブル1の位置xが、刻々精密に計測される。(3x,4x)を作動させてテーブル1を駆動する。4xとモータ7xとを相互に関連付けて作動させる。0により近く、また、停止時のテーブル振動がより小さい位置決め停止動作を実現する。acceleration,等速度移動の期間は、従来例の装置と同様なモータ7xによる駆動が行われる。期間であっても、リニアモータ3x、4xを作動させればより大きな駆動トルク等を得ることができ、ステージ1動作の高速化を実現できるのは言うまでもない。say.一方、停止後のステージ位置の補正は、送りネジ6xを停止した状態で、干渉計8xにより測定された停止位置を、制御器10に蓄えられた目標位置と比較しながら、これが一致するまで、リニアモータ3x、4xによるテーブル1の付勢力を準静的に増すことにより、送りネジ6xを弾性変形して、テーブル1の位置をずらすことで達成される。1.第3図は、第1実施例のステージ装置の制御系のブロック図であって、先に述べた制御器(ホストコンピュータ)10は、上記構成のステージ装置を含むシステム全体を統括制御する。メモリ11には、テーブル1の位置決め動作および各種演算等に必要なパラメータ(定数)やテーブル等が記憶されている。12とリニアモータコントローラ13とへ出力する。0とのずれ量に基づいてテーブル1の移動速度指令値を算出した後、DAコンバータ14a、14bを介して補償回路(アナログ制御回路)15a、15bへ出力する。これと同時にコントローラ12、13は、テーブル1の位置や移動速度に応じて最適なフィードバックゲイン制御信号(後述)も発生し、これらゲイン制御信号は補償回路15a、15bへ送られる。motor3x、4xの各制御量が所定のアナログ演算によって算出される。この演算値(制御指令)は、それぞれパワーアンプ18a、18bを介してモータ7x、リニアモータ3x、4xに出力され、この結果テーブル1を停止させるにあたっては、モータ7xとリニアモータ3x、4xとが相互に関連付けられて作動されることになる。第3図に示した制御系の構成は、あくまでも一例であって、当然ながら第1実施例によるステージ装置に好適な制御系は上記構成のみに限られるものではない。6x,かつテーブル1に結合されて一体に移動可能なメインナットと、このメインナットと所定の間隔だけ離れて送りネジ6xに螺合され、かつ弾性体(板ばね等)を介してメインナットに結合されるサブナットとが設けられている。メインナットとサブナットとは相対的に回転しないように弾性体によって係止されるとともに、この弾性体がメインナットとサブナットとの間に送りネジ6xの軸に沿って一方向に一定の与圧力を与え、送りネジ6xとこれに螺合するメインナットとサブナットとの各々の間に一定の接触力を付与することで、テーブル1の停止時に生じるテーブル1が戻される現象(バックラッシュ等)が防止される。3x、4xによりテーブル1に付勢力を与える際、上記弾性体による付勢方向と特に減速時にテーブル1が受ける慣性力の方向とに応じて送りネジ6xとこれに螺合するメインナットとの間にすきま(例えば数μm程度)が生じれば、上述したごとく送りネジ6xを軸方向に弾性変形させなくとも、テーブル1の精密な位置決めを行うことができる。1.この際、メインナットが弾性体から受ける付勢方向と逆方向にテーブル1が移動すると、テーブル1の停止と同時に、上記すきま分だけテーブル1が戻される現象(バックラッシュ等)が生じ得る。このような場合も先に述べたようにテーブル1を停止させた後に、リニアモータ3x、4xによりテーブル1に付勢力を与えれば、上記現象によるテーブル1の位置決め精度の低下等を防止できる。テーブル1を停止させるに際して、リニアモータ3x、4xを用いて上記慣性力を打ち消すような付勢力をテーブル1に与えても、同様に位置決め精度の低下を防止できる。prevented.また、上記構成のステージ装置においては、テーブル1の移動に伴い、直交座標系XYに対してテーブル1が回転する、いわゆるヨーイングも発生し得る。そこで、例えば2組のリニアモータをテーブル1の移動方向(X方向)に沿ってほぼ平行に所定間隔あけて配置するとともに、テーブル1のヨーイング量(回転量)を計測可能な差動干渉計を設ける。1の停止後、2組のリニアモータの各々に互いに逆方向のテーブル1に対する付勢力を発生させれば、上記ヨーイング量をほぼ零にすることができ、テーブル1の回転に伴う2次元的な位置決め誤差の発生も防止できる。0を基準としたテーブル1の位置xに応じてモータ7xとリニアモータ3x、4xの駆動条件を与える数式として表現される。この数式はテーブル1に対するモータ7xとリニアモータ3x、4xの作用関数と、テーブル1の運動方程式とから数学的に求められる。実際には、この数式中のいくつかの定数については実験を繰返して最適化を図ることが望ましい。7xの駆動とを並列に行わせたもので、以下、これを数式により説明する。ここで用いられる各符号は次のとおりである。rigidity)を調整するため、モータ出力トルクtとリニアモータ推力fを次のように設定する。0は次のように定めてある。2の各パラメータを以下に説明する。0は、システムの剛性を補償する、モータとリニアモータの位置フィードバックの影響を表わす。1は、回転軸系の粘性項と、それを補償するモータの速度フィードバックと、テーブルの粘性項を補償するリニアモータの速度フィードバックとの和の影響を表わす。2は、回転軸系とテーブルの慣性項の和と、それを補償するリニアモータの位置と速度のフィードバックとの和の影響を表わす。table,それを補償するリニアモータとモータの速度フィードバックの和の影響を表わす。4は、テーブルの慣性項と回転軸系の慣性項の積を表わす。1は、粘性項による位相の遅れを補償する、リニアモータの位置フィードバックの影響を表わす。2は、粘性項による位相の遅れを補償する、リニアモータの位置フィードバックの影響を表わす。2の各パラメータを用いて状態空間モデルの式を求めると、以下のように表わされる。follows.ただし、Zは状態変数である。適度に調節することで、各パラメータをテーブル送りに望ましい値に設定することができる。これらのフィードバックゲインは固定としても良いが、最適レギュレータや学習制御等により、ゲインを時々刻々と調整することでより高精度な位置決めが可能となる。time.また、第1実施例では、テーブル1のガイド機構としてエアベアリングを採用したので従来必要であった潤滑油の管理が不要であり、摩擦等がないので高速移動が容易である。7xおよびリニアモータ3x、4xのフィードバックゲインを変化させて、テーブル1停止時のx方向の振動減衰効果を調べたものである。0に10μmのところまで2mm毎秒の等速度運動を行って、そこからは(1)、(2)式に従ってモータ7xおよびリニアモータ3x、4xの運動インピーダンスを調整しながら位置フィードバック制御を行う。6xのみでテーブル1を駆動した結果を示す。グラフから残留振動により、0.01μm以内の位置決め誤差に収まるのに82.5ミリ秒程度かかることが分かる。m.第5図は、第4図の条件において、さらにフィードバックゲインを上げた場合の結果を示す。gain.テーブル1が共振し始めている。このように、テーブル1を非接触に支持して、送りネジ6xのみで駆動した場合には、剛性と粘性が不十分なためにフィードバックゲインを高く採れず、高速、高精度な位置決めが困難であることが分かる。seen.第6図は、リニアモータ3x、4xによって駆動系の運動インピーダンスを調整した場合の結果を示している。オーバシュートも無く、11ミリ秒で収束している。impedance,サーボモータ7xに対し、安定な高ゲインのフィードバック制御を可能にしている。stage,直線(一次元)移動する装置であれば、本発明を適用して同様の効果を得ることができるのは明らかである。invention.第1実施例では、ガイド機構をエアベアリング等の非接触式のものとして、テーブルの運動に対するガイド機構の影響を排除したが、ニードルベアリング等の接触式のガイド機構を採用することもできる。この接触式のガイド機構を採用した第2実施例について以下説明する。below.一般に、接触式のガイド機構においては摩擦が存在する。このためテーブルの位置決めには、必ず定常偏差である位置決め誤差が生じ、その大きさは摩擦力に大きく依存する。この位置決め誤差を小さくするには、制御系のゲインを大きくするか、誤差に対して積分補償器を入れる等の対策が必要となる。位置決め誤差をサブミクロン・オーダーに収めるには、摩擦力に十分勝るだけの駆動力が必要である反面、接触式のガイド機構では粘性が十分でないため、テーブルが振動的になる傾向がある。従って、ニードルベアリング等の接触式のガイド機構を採用したステージ装置においても、第1実施例と同様に、送りネジとリニアモータとを相互に関連付けて制御するようにした効果的な減速プログラムを実行することができる。do.第2実施例のステージ装置は、第2図の第1実施例のステージ装置の構成において、ガイド機構2Xだけをニードルベアリングを配列した接触式のものに置き替えたものであって、詳細な構成の説明は省略する。9図は送りネジだけを用いて大きなゲインの制御を行った場合の線図、第10図は送りネジとリニアモータとを相互に関連付けて駆動した場合の線図である。feed.第8図に明らかなように、送りネジだけで目標位置に向って小さなゲインの制御を行った場合には、ガイド機構の摩擦力が優勢となり、テーブルの運動は振動的とならないものの、テーブルが停止したときには0.2μmの定常偏差が発生し、ほぼ2mm毎秒の速度から停止に至るまでに30ミリ秒を要している。second.第9図に明からなように、送りネジだけで目標位置に向って大きなゲインの制御を行った場合には、ガイド機構による摩擦力および減衰力は無いに等しい状態となり、テーブルの運動は振動的となり、発振状態を呈してテーブルがいつまでも停止しない。obtained,定常偏差もサブミクロン・オーダーに十分収っている。請求項1〜3に記載された各発明によれば、ガイド機構の接触式、非接触式を問わず、第2駆動手段、例えばリニアモータによる加減速が行われるからステージの高速化を図ることができる。テーブルに生じる振動を抑制することができる。table.また、請求項4および請求項5に記載された各発明によれば、さらに、テーブルに発生する振動を気にすることなく思い切った大きな減速を行うことも可能となる。table.これにより、加減速期間および停止後の減衰待ち時間が短縮され、停止位置の精度も向上する。position.また、これら各請求項記載の発明では、第1駆動手段および第2駆動手段の制御は、例えば、干渉計により求めた座標値等に応じたもので済み、複雑な振動検出系やフィードバック系を含まないから、ステージ動作の高速化が容易であることに加えて、ステージ装置を構成する部品の点数が減り、組立て構成も簡単で済む。simple.また、請求項6記載の発明によれば、テーブル構成部品を増すことなく、微小送りによる偏差Δxの修正を行える。従って、テーブル構造は簡単なまま重量も増えないから、駆動軸の駆動力に対するテーブル動作の応答性、および位置決め精度に悪影響がない。速やかな振動減衰を妨げることなく、残った停止位置の誤差を高精度にしかも不要なステージ振動を発生せずに容易に補正することができる。damping.また、請求項7および請求項8に記載された各発明によれば、テーブル構成部品を増すことなく、微小回転によるヨーイング補正を行える。従って、テーブル構造は簡単なまま重量も増えないから、駆動軸の駆動力に対するテーブル動作の応答性、および位置決め精度に悪影響がない。速やかな振動減衰を妨げることなく、残った停止位置の誤差を高精度にしかも不要なステージ振動を発生せずに容易に補正することができる。damping.また、請求項9記載の発明によれば、ガイド機構の不安定な摩擦力や減衰力に頼ることなく再現性の高い制御が可能であるから、テーブル停止後の振動抑制を、効率的かつ信頼性高く行えるという効果も奏する。sex.また、請求項10記載の発明によれば、テーブル構成部品を増すことなく、微小送りによる偏差Δxの修正を行える。従って、テーブル構造は簡単なまま重量も増えないから、駆動軸の駆動力に対するテーブル動作の応答性、および位置決め精度に悪影響がない。速やかな振動減衰を妨げることなく、残った停止位置の誤差を高精度にしかも不要なステージ振動を発生せずに容易に補正することができる。damping.さらに、請求項11記載の発明では、ステージ装置の高速化、高精度化により、露光操作時の効率化、高精度が達成される。DRAWINGS第1図は、本発明の第1実施例のステージ装置の斜視図である。第2図は、本発明の第1実施例のステージ装置のXテーブルの構成を模式的に示した側面図である。第3図は、本発明の第1実施例のステージ装置の制御系のブロック図である。第4図、第5図、第6図は、本発明の第1実施例のステージ装置の動作を説明するための線図である。第7図は、従来例のステージ装置の構造を示す模式図である。第8図、第9図、第10図は、本発明の第2実施例のステージ装置の動作を説明するための線図である。前記第1駆動手段と前記第2駆動手段は、互いに並列に前記テーブルに駆動力を与えることを特徴とするステージ装置。other.【請求項2】前記テーブルの前記所定方向の位置を測定する位置計測手段を有することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。table.【請求項3】前記第2駆動手段がリニアモータであることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。motor.【請求項4】前記第2駆動手段がテーブルに駆動力を与えることにより、前記テーブルの停止時に生じる振動を抑制することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。table.【請求項5】前記第1駆動手段が前記テーブルを減速させる最中に、前記第2駆動手段により前記テーブルに駆動力を与えることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。means.【請求項6】前記第1駆動手段が前記駆動を停止した後に、前記第2駆動手段により前記テーブルに駆動力を与えることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。前記第2駆動手段が、前記テーブルに生じる前記回転量に前記駆動力を与えることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。providing.【請求項8】前記第2駆動手段は前記所定方向に沿ってほぼ平行に所定間隔をあけて配置された二組のリニアモータを有することを特徴とする請求項7に記載のステージ装置。direction.【請求項9】前記テーブルは非接触式のガイド機構を有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のステージ装置。請求項1から請求項9までのいずれか一項に記載のステージ装置を備えることを特徴とする半導体製造装置。計測結果に基づいて前記テーブルに前記第2の駆動力を与えることで該ステージを目標位置に位置決めすることを特徴とするステージ装置。