Lsには、僅かな周波数差△fが生じる。偏向装置143およびミラー144を経て被写体10へ入射される。143、偏向装置142および集光レンズ141によりファイバ124に帰還せしめられる。121において、後述するファイバ123に帰還せしめられた参照光Lrと合波される。130の集光レンズ131を介して、参照光ミラー132に入射し、この参照光ミラー132で反射され再度集光レンズ131を透過して、ファイバ123に帰還せしめられる。ファイバ123に帰還せしめられた参照光Lrはファイバカプラ121で、上述した信号光Ls'と合波される。Ls'.【0035】ファイバカプラ121で合波された信号光Ls'および参照光Lrは、再び同軸上に重なり、信号光Ls'と参照光Lrが干渉して干渉光Lcとなり、ビート信号を発生する。ファイバカプラ121に到達するまでの光路長が、参照光Lrがファイバカプラ121に到達するまでの光路長に等しい場合に両光が干渉し、この干渉する両光の周波数差(△f)で強弱を繰り返すビート信号が発生する。'の強度を検出し、信号処理部160へ出力する。145の偏向方向を変えることにより信号光Lsの照射位置を移動させ、測定範囲の水平方向の走査を行う。145,再度偏向手段142を駆動させ水平方向の走査を行う。again.上記の動作を繰り返すことにより、測定範囲の2次元平面の走査を行う。133により、その光軸方向(図中水平方向)に移動され、参照光Lrがファイバカプラ121に到達するまでの光路長が変化する。このため参照光Lrと干渉する信号光Ls(Ls')の光路長も変化するので、被測定組織10の断層情報を取得する深度も変化する。here,再度2次元平面の走査を行う。plane.【0040】このような動作を信号光が所定の深度に達するまで繰り返すことにより、測定開始位置から測定終了位置までの被写体10の測定範囲の3次元の断層情報を得ることができる。information,どのような順番でもよい。order.【0041】信号処理部160では、光検出部150で検出された被写体10の3次元断層情報を基に3次元画像化し、モニタ170へ出力する。3次元断層情報の空間座標を、前述の原理に基づいて補正して、ひずみの無い画像を表示させることもできる。よれば、2つの偏向装置により2次元スキャンを行うため、被写体の測定範囲のみのデータを高速かつ高品質に取得することができる。can.【0043】本実施形態では、震動装置にガルバノメータを用いたものを使用したが、図3に示すようなピエゾ素子を用いたものを使用してもよい。この震動装置の原理について説明する。ミラー20は可撓性を有する支柱21によりベース22に固定される。23を動かすものである。ミラー20の移動量の制御は、ピエゾ素子23に流す電流の量を調節することにより行う。23.【0044】また、図4に示すような静電力を利用したものとしてもよい。この震動装置の原理について説明する。ミラー20の裏側に電極板25が取り付けられており、同じくベース24の斜面に電極板26が取り付けられている。25を取り付けられたミラー20を動かすものである。ミラー20の移動量の制御は、電極板25、26にかける電圧の量を調節することにより行う。26.【0045】さらに、図5、図6に示すように熱膨張を利用したものとしてもよい。これらの震動装置の原理について説明する。図5は、ヒータの熱により金属を膨張させるものである。ミラー20とベース24の斜面に取り付けられたヒータ27の間に熱膨張材28が設けられている。この熱膨張材28には、AlやCuなどの一般の金属、バイメタル、形状記憶合金などを用いることができる。本震動装置は、ヒータ27により熱せられ膨張した熱膨張材28により、ミラー20を動かすものである。ミラー20の移動量の制御は、ヒータ27の温度を調節することにより行う。27.【0046】図6は、レーザにより照射された光を吸収させることにより金属を膨張させるものである。ミラー20とベース24の斜面の間に熱膨張材29が設けられている。この熱膨張材28はレーザから照射された光を吸収し、その光を熱に変換する。20を動かすものである。ミラー20の移動量の制御は、熱膨張材29に照射するレーザの出力を調節することにより行う。29.【0047】次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。本実施形態は第1実施形態の要素から偏向装置を変更し、光音響効果により偏向するようにしたものである。光走査部を示す図である。図1に示す第1の実施形態と同等の要素についての説明は、特に必要のない限り省略する。Modulator)を使用する。AOM184および187内部に超音波を発生させ、これにより生じる光音響効果により光を偏向するものである。effect.光の偏向角の制御は、AOM184および187に入射する超音波の波長を変化させることにより行う。like.【0049】上記のような偏向手段を用いても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。embodiment.【0050】次に、本発明の第3の実施の形態について説明する。本実施形態は第1実施形態の要素から偏向装置をさらに変更し、光電気効果により偏向するようにしたものである。光走査部を示す図である。that,図1に示す第1の実施形態と同等の要素についての説明は、特に必要のない限り省略する。これらは、EOM184および187の入射偏向面に対して直角方向に電界を加え、これにより生じる光電気効果により光を偏向するものである。光の偏向角の制御は、EOM190および191に加える電圧を変化させることにより行う。GaAsなどを用いる。used.【0052】上記のような偏向手段を用いても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。