支えるフォトレジスト材料No1メーカーとして当社は1970年代半ばに半導体産業にいち早く注目し、半導体回路形成に使用されるフォトレジスト用感光性化合物の基礎研究に着手しました。1981年には「ポジ型感光材(PAC)」「ネガ型感光材」の商品化を果たしました。半導体の微細化に対応して1997年からは「化学増幅型レジスト用光酸発生剤(PAG)」や「化学増幅型レジスト用ポリマー」の生産・販売を行っています。2000年に入り「ポジ型感光材(PAC)」は液晶テレビ用のパネル製造にも多量に使用されるようになり、事業のすそ野が広がりました。半導体の集積度向上に対応して、より小さな回路を作る微細加工はより短波長のArF液浸露光が使用されるようになり、更なる技術革新によりEUV露光の時代の幕開けが到来しています。今後も当社は半導体の微細化を支えるフォトレジスト材料No1メーカーとして、電子化される未来社会を支えて行きます。すべては品質につながる微細化のスピードは年々速まっており、マーケットの要求は品質とともにスピードとコストが求められるようになっています。デリバリー、販売、そしてそれにかかわるすべての人。これら全てを含めて「お客様に提供する価値」と位置づけ、お客様の開発のファーストステージから事業のファイナルステージまで一貫して、この価値をプロアクティブに提供することで、お客様と共に成長する企業を目指します。感光材製品のマーケット当社製品は半導体やパネルを通して、液晶および有機ELテレビ、携帯電話、パソコン、LED照明、VRデバイス、自動車、デジタルサイネージ...と非常に広い分野で利用されています。IoTの更なる普及により、需要が大きく拡大していくことが予想されます。半導体向けの感光性材料と同様の管理基準のもと、クリーンおよびドライ環境にて、安定して高純度のイオン液体及び電解液の製造を行い、提供しています。