(1/3)2019年11月から12月にかけて、中国のメモリ業界に関して、驚くようなニュースが立て続けに報じられている。筆者が驚いた3つのニュース(事件と言ってもよいのではないか)を分析し、今後、中国が先端ロジック半導体や先端DRAMを製造できるか考察してみたい。筆者が注目したニュース(事件?)を時系列順に列挙してみよう。筆者にとっては、全てが驚きだった。そこで本稿では、上記について、自分なりにその背景事情を調査・分析し、今後、中国が先端ロジック半導体や先端DRAMを製造できるかどうかを考察してみたい。2025」を制定した。この政策に基づいて、メモリ分野では、柴光集団傘下の長江ストレージが3次元NAND型フラッシュメモリを、JHICC、ChangXin、紫光集団が先端DRAMを製造しようとしている。JHICCは、2018年10月に米国政府がエンティティーリスト(EL)に追加したため、事実上DRAM製造は頓挫した(この“JHICC-UMC事件”の詳細は後述する)。Mong-Song氏を共同最高経営者(Co-CEO)にヘッドハントした。Watch、2019年8月19日)。その後も、10nmプロセスやEUV露光装置を使った7nmプロセスの開発を視野に入れているに違いない。2019年後半にEUV露光装置を導入するというのは、上記の微細化プロセスを実現するためのLiang氏のシナリオであろう。ところが、ASMLがEUV露光装置露光装置の輸出を保留したため、それが宙に浮いてしまった。REVIEWによれば、オランダ政府がASMLに輸出許可を出さなかったからだという。オランダ政府はASMLに輸出許可を出さなかったのか?複数人の有識者にヒアリングした上で、筆者が最も腑に落ちたのは、「中国とハイテク戦争を行っている米国政府を、オランダ政府が”忖度“したからだ」という見解である。その”忖度“もいくつかの意味がありそうだ。ASMLは、露光装置の約20%を米北西部のコネクティカット州で製造している。この“約20%”という割合が微妙だ。いうのは、前述した通り、米国政府は中国のJHICCをELに追加した。Research、KLA-Tencorなど米国製の製造装置の輸出が禁止された。これに加えて、ELに乗った中国企業には、他国製であっても米国の知財が25%以上含まれていると、輸出禁止になる。ASMLの“約20%”とELの25%。米商務省の匙加減次第では、どうにでもなりそうな数字である。今後、長江ストレージ、ChangXin、紫光集団、そしてSMICも、ELに追加される可能性がある。ASMLの露光装置全てが中国へ輸出禁止になるとすると、2018年時点で、韓国と台湾に次ぐ規模の中国の露光装置市場(2321億円)のビジネスが失われることになる(図1)。/検査装置市場年鑑(2016、2019)を基に筆者作成(クリックで拡大)また、米国は中国に次ぐ約2000億円の市場でもある。「中国に協力的なASMLの露光装置は輸入禁止」とでもされたら、その被害も甚大だ。HuaweiやJHICCの例を見れば明らかなように、米国政府の逆鱗(げきりん)に触れるとロクなことにならない。オランダ政府としては、”忖度“するしかなかったのではないだろうか。LLC.ITmediaはアイティメディア株式会社の登録商標です。