製造・販売している貴金属、卑金属、セラミクスのスパッタリングターゲット及び蒸着材料を製品・サービス別及び用途別にそれぞれご紹介します。細かい粒径が特徴です。NiPtターゲット半導体用途で主に使われ、100μ以下の粒子でターゲット全面で粒径が均一である事が特徴です。膜用として銀の円筒ターゲットが利用されます。上記以外に、プラチナ、パラジウム、ルテニウム、を始めとして各種貴金属ターゲットを製造しています。卑金属ターゲットTiWターゲットパーティクル発生の少ない微細で均一な粒径が特徴です。Siターゲット高周波フィルターで利用されるシリコンターゲットを様々な形状でご提供します。熔解のインゴットから製造、100μ以下の粒径が特徴です。焼結もしくは熔解の標準的な組成のターゲットに加え、用途別に多元の各種合金を開発、ご用意しています。スパッタ装置メーカーと緊密な関係の中でいただいたアドバイスをお客様の声と共に反映し、より良い製品の開発に努めています。スピッティングやパーティクルが発生しないスターターソースをご提案します。始めとする素材でお客様ご希望の各種デザインのスターターをご提供します。多様な蒸着材料を持っておりまずので、ご検討の際は是非、ご相談ください。スパッタリングするサービスをご提供します。Ownership米国、欧州にある貴金属製品精製、シールドキットクリーニングの専用工場で精製費用、クリーニング費用を抑え、回収率を向上させてお客様のTCO向上に寄与します。1912貴金属ターゲットの精製、シールドキットクリーニングは上記拠点で行います。今後、シンガポールにも展開予定です。各種パッケージは、お客様のご要望にあわせてカスタムメードのサイズと仕様でご要望にお応えします。注)記載の無い組成のターゲットも多数、扱っていますのでお問い合わせください。注)記載の無い組成のターゲットも多数、扱っていますのでお問い合わせください。(alloy)卑金属AlCrCuGeMoNiNicrSnTaTi化合物ArsenidesBoridesCarbidesFlouridesHydridesOxidesSelenidesSulfidesTelluridesThoriumCONTACTまずはお気軽にお問い合せください。Corporation.keyboard_arrow_up。