座標系は、ステージと独立した3枚の参照平面(ミラー)で構成され、周波数安定化He-Neレーザを光源としたレーザ干渉法によりXYZ各軸を分解能0.3nmで測長します。これによりステージの直角度・真直度による影響を抑え、高精度測定を実現します。上面測定用(AFP)超低測定力で測定物の高精度スキャニング測定が可能です。スタイラスはマイクロエアスライダーで保持され、フォーカス用レーザによりスタイラスの動きを検出し、測定力が一定になるようにAFPの位置を測定物の形状に合わせて追従します。側面測定用(S-AFP)高精度に検出されたプローブミラーの傾きをXYステージにフィードバックし、低接触力(0.3mN)のスキャン測定が可能です。レンズ鏡筒(バレル)などの樹脂製品で変形無く測定が可能です。簡単な操作で高精度な測定を実現。あらゆる設計情報に対応でき、測定物の設置誤差を3次元的に補正して正確な形状測定が可能です。技術のお問い合わせ導入のお問い合わせその他お問い合わせUA3Pの動画映像はYouTubeでご紹介いたします。パナソニック・ホーム。