異なる触媒反応を利用し高純度な水分を発生させる。1触媒を使用した反応炉で従来方式と比較して低温(350°C)で水分を発生させる。2幅広い濃度制御範囲1~100%までの水分濃度制御が可能。触媒反応プロセスは、従来方式より低温(350°C)で行われます。これは大気圧における水素と酸素の混合ガス発火温度に対して十分に低く、発火の危険性はありません。Direct!についてご利用ガイドサイトマップよくあるご質問お問い合わせフジキンサイト特定商取引法プライバシーポリシーChineseサイト。