廣瀬哲也准教授のご厚意にてデザインいただきました。廣瀬准教授のご研究の専門分野は、シリコンテクノロジーによる半導体集積回路(LSI)の設計です。小型化に係る基盤技術開発研究や新しいLSI応用を目指した集積回路技術の開拓研究を行っていらっしゃいます。CalmIIIをご使用いただき設計されたシリコンウェハです。弊社も微力ながらご研究の一翼を担うシステム開発に邁進いたします!コメントは受け付けていません。