生物的変化を与える装置に関するものである。技術】これまで、繊維状やシート状の長さの長10い被照射物に電離性放射線を照射する場合には、ビームから成ることを特徴とする前記装置。冷却手段を更に含む、請求項1に記載の装置。巻取りまでの部分を空気置換のできる密閉式の照射容器−1−(2)特許第3226574号34に入れることで、被照射物を空気と遮断して電子線など処理に耐え得る構造及び材質のものである。ボビンの粒子ビームの照射が行われていた。性放射線によって加熱を受けるため、その肉厚を薄くす続的に照射することが難しい上に、照射後の被照射物をるなどして熱の拡散を大きくする。空気に触れさせることなく加熱や化学反応を行うことが発明の電離性放射線の回転照射処理装置に用いられるボできないという欠点があった。空気に触れさせることなくパレットごと加熱や化学反応10に空気を遮断した状態で電離性放射線を照射するためのを行う容器に入れる方法がある。ボビンは照射容器の内部に収められくの被照射物に電離性放射線を照射できるという利点をる。有するものの、被照射物の処理量の割に照射容器が大型ボビンを回転させながら照射を行う。化するため、連続長繊維や長尺シートに電離性放射線をには、被照射物を巻き付けたボビンを回転させるための照射するような場合には非現実的な方法である。回転手段が設けられている。【0011】照射容器には、電離性放射線が入射するたや長尺シートを製造する場合、及び長い材料の材料評価めの照射窓が設けられている。照射容器内に収められたを行う場合には、従来の方法では処理できなかった。従って照射窓の部分を通過する度に電離性放射線の照射20を受ける。明は、連続長繊維や長尺シートなどに電離性放射線を均に電離性放射線が照射される。照射窓としては、例えば一に照射できるとともに、照射後に空気に触れさせるこチタン箔等を用いることができる。有する装置を提供することを目的とする。気、遮断するための排気弁等の排気手段が設けられてい【0006】る。従って、照射容器は外気との流通が生じないよう【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本に、気密構造になっている。熱されるので、熱分解するおそれがある。物の加熱手段を含み、更に照射容器と接続可能な、気密を冷却する。性の安定化処理容器、から成ることを特徴とするもので又は液体窒素等の冷媒を通じるラジエーター等の冷却手ある。段を照射容器内に更に設けてもよい。射線の出力を上げても加熱による被照射物の温度上昇はって、酸化に対して比較的安定な状態にすることができ抑えられる。その結果、熱分解を生ぜしめることなく、る。多量の被照射物を比較的短時間で処理することが可能と【0008】上述のように、本発明の電離性放射線の回なる。【0015】電離性放射線の照射によって被照射物には理容器から構成される。応活性種が酸素等と反応して被照射物が酸化されてしま性放射線を照射するためのものである。酸化によって被照射物の性能の低下をきたすことが射物の巻取り、電離性放射線の照射及びその後の安定化50−2−あるので、このような反応を防止しなければならない。器をそれぞれ図1∼図5に示す。被照射物に安定化処理を施すことが必要である。そのよは、本発明実施の一態様を表すものであり、これに限定うな安定化処理は、例えば真空中又は不活性ガス雰囲気されるものではない。中における被照射物の加熱処理又は化学反応処理であ【0024】図1はボビン100を示すものである。かかる安定化処理を行うために、本発明においてはンはステンレス製で、30cmφ×32cmの胴部に44cmφのフ安定化処理容器が用いられる。【0016】本発明の安定化処理容器は、その内部にボ発熱を抑制するために、被照射物が接触する(巻付けらビンを収容することができ、且つ照射容器と接続可能なれる)胴部102の肉厚を100μmとした。図1に示すようものである。安定化処理容器は照射容器と同様にに、電離性放射線の照射や安定化処理は、かかるボビン気密構造であり、且つ排気手段が設けられている。従っ10て、安定化処理容器と照射容器とを接続した後に、被照を三個支持棒で組み立てて行った。【0025】照射容器200は、図2及び図3に示すよう射物が巻き付けられているボビンを、外気に触れさせるにボビン100の出し入れ口(45cmφ)が付いた空気遮断用ことなく、安全且つ確実に照射容器から安定化処理容器の気密シャッター201と、回転ローラ202及びチェーン20に移し換えることができる。その結果、非処理物の酸化4からなるボビンの回転機構と、電離性放射線の照射窓2反応が起こることが防止される。する構造になっている。定化処理の温度及び昇温速度を制御する。空ポンプで照射容器200内を排気した後、照射容器内にボビンを回転させながら被照射物を加熱することが好ましい。被照射物の加熱処理を均一に行うことができるか不活性ガスを流通させた状態でラジエーターによって水20冷しながら行う。被照射物への電離性放射線の照射はボらである。ビン100を回転させながら行う。【0018】かかる安定化処理容器中で加熱処理や化学の照射窓203の下を通過する際に照射を受ける。照射窓2反応処理等を行うと、その処理中に分解生成物又は反応03は、厚さ50μmのチタン箔であった。生成物が発生することがある。被照射物のり、胴部が断熱材305に覆われた構造になっている。空気酸化を完全に防止でき、材料の製造、評価に極めて射容器200の気密シャッター部201と安定化処理容器300有効なものとなる。【0020】本発明の装置を用いて電離性放射線が照射し、安定化処理容器300内を排気弁309を通じて真空排気される被照射物は、ボビンに巻き付けることが可能なもした後、不活性ガスを導入する。両容器の気密のであれば如何なる材料、形状のものでも使用することシャッター201及び301を開き、ボビン移動ハンドル306ができる。ポリカルボシラン系ポリマーやポリによって照射容器200内のボビン100を安定化処理容器30アクリロニトリルを用いることができる。本発明で0内に移し換える。この間、ボビンに巻き付けられた被は、熱的に不安定な物質であって、連続長繊維状のよう照射物の外気との接触は全くない。ボビン100を安定化な細物や又はシート状のような幅広の形状の被照射物が処理容器300内に移し換えたら、両容器の気密シャッタ適している。ー201及び301を閉じ、安定化処理容器300と照射容器200とを切り離す。X線、加速電子線及び紫外線である。400内に不活性ガスを流通させ、被照射物を回転させなが実用的には、γ線又は加速電子線を用いることが好ましら加熱ヒーター304によって加熱することでなされる。【0027】かかる装置を用いて電離性放射線の照射の【0022】以下、実施例によって本発明を更に詳細に様子を調べた。三個のボビン100(30cmφ)の円周方向に説明する。用いて、加速電圧2MV、電流0.5mA及びボビンの回転数1rを酸素の関与しない条件で評価するために、ビーム照射pmの条件で、加速電子線を20分間照射した。図6に示すようにボビン100のいずれの場所においても処理装置を構成するボビン、照射容器及び安定化処理容50−3−殆ど均一(最大で10%以内の差)な線量分布が得られた。(4)特許第3226574号78【0028】続いて、上記と同様の電子線加速器を用い【図4】安定化処理容器の上面図及び正面図である。本発明の装置によって融解温度が230°Cのポリカル【図5】安定化処理容器の側面図である。ボシラン系繊維に加速電子線を照射した。ポリカルボシ【図6】ボビンの線量分布を示す図である。ボビンガス気流中で照射した。胴部0内に水冷式の冷却用ラジエーターを設置した。