[0001]【発明の属する技術分野】本発明は基板搬送方法及び基板搬送装置に係り、更に詳しくは、基板に処理を施す処理装置、例えば液晶用露光装置にガラス基板を搬送するのに好適な基板搬送方法及び基板搬送装置に関する。[0002]【従来の技術】従来より、半導体基板(ウエハ)やガラス基板等に対して露光等の一定の処理を施す処理装置に対して装置外から基板の受け渡しを行うために基板搬送装置を用いている。この種の基板搬送装置では、搬送アームを使って基板をバキュームチャック等により吸着して保持し、所定位置まで搬送した後、吸着を解除して基板を露光装置側の基板保持部に渡す。FilmTransistor)等の回路パターンを形成するフォトリソグラフィ工程において、マスクに形成されたパターンを投影光学系を介してレジストが塗布されたガラス基板上に転写するステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置、いわゆる液晶ステッパーや等倍の走査型の投影露光装置などがある。apparatus.【0004】図6には、従来の基板搬送装置60が処理装置としての液晶用の走査型の投影露光装置80と共に示されている。6におけるX軸方向に移動可能な搬送アーム68とを備えている。80が設置されている。この投影露光装置80は、複数(ここでは4つ)の防振パッド(除振パッド)71を介して床面70上に水平に保持された防振台88を備えており、この防振台88上の定盤86上に設けられたガイド89上を露光用ステージ82がX軸方向に沿って走査されるようになっている。この露光用ステージ82は、実際には断面コ字状のキャリッジと、このキャリッジの一方の側壁(紙面手前側の側壁)の内面に設けられた基板保持部と、他方の側壁(紙面奥側の側壁)の外面に設けられたマスク保持部とを備えている。この露光装置では、投影光学系PLは、コ字状のキャリッジの一方の側壁と他方の側壁との間に不図示の本体コラムを介して保持されている。carriage.【0006】次に、図6に基づいて基板搬送動作を含む従来の露光シーケンスについて説明する。FIG.【0007】まず、基板搬送装置60の不図示の制御部では、図6に示される主柱64を180°回転させて搬送アーム68を図6の仮想線68'で示される位置に移動させた後、搬送アーム68を下降させて基板搬送装置60の紙面左方向に配置されている不図示のガラス基板の一時保管箱であるプレートケースから未露光のガラス基板72を受け取る。6の実線位置までガラス基板72を搬送する。60,ガラス基板72を保持する搬送アーム68を下降駆動させ、図6の仮想線82'で示される受け渡し位置に待機している露光用ステージ82の基板保持部にガラス基板72を渡す。60,搬送アーム68を図6の実線位置まで上昇駆動し、待機させる。wait.【0009】このようにして、搬送アーム68による露光装置80へのガラス基板72の受け渡しが完了した後、図6の仮想線82'で示される受け渡し位置で停止している露光用ステージ82を紙面右方向(+X軸方向)に走査する間に、投影光学系PLを介しての不図示のマスクのパターン像がガラス基板72上に転写される。この露光用ステージ82の走査露光の際の制御は、測長ビームBIXにより露光用ステージ82の位置及び速度の変化を検出している干渉計84の出力をモニタしつつ露光装置80の不図示の制御部によって行われる。shown.【0010】このようにして露光(マスクパターン像のガラス基板72上への転写)が終了すると、露光済みのガラス基板72を保持する露光用ステージ82は、再び受け渡し位置(82'の位置)まで戻されて停止する。2.【0011】搬送アーム68が露光用ステージ82から露光済みのガラス基板72を受け取った後、基板搬送装置60の制御部では搬送アーム68を実線で示される位置まで上昇駆動した後、主柱64を180°回転させてプレートケース(図示省略)へガラス基板72を渡す。これにより、1回の露光シーケンスが終了する。[0012]【発明が解決しようとする課題】上述した従来の基板搬送装置60では、ガラス基板72を露光装置80の基板保持部に所望の位置関係で正確に渡すためには、露光用ステージ82が所定の受け渡し位置に正確に停止し、且つこの停止位置で露光用ステージ82側の基板保持部と搬送アームとの位置関係が所望の状態に調整されることが前提となる。68の位置出しを行ってから装置の稼動を開始していた。82側の基板保持部と搬送アームとの所望の位置関係を維持することが困難になる。60及び搬送アーム68の位置出しを再度行う必要があるが、位置出し作業が面倒な上、位置出しをする間は露光装置の運転を停止しなければならいというデバイスの大量生産を目的とする露光装置としては最も困った事態に陥るという不都合があった。situation.【0015】また、露光装置80本体の姿勢変化量があるレベルより大きくなると、搬送アーム68によるガラス基板72の搬送中にガラス基板72が露光装置80と干渉することも生じ、ガラス基板72が破損するという重大事を引き起こす可能性もあった。72の破損が起こると、露光装置80の運転を長時間停止してガラス基板72の破片の除去を完全に行わなければならないという不都合が生じる。potentially,このような事態になればその影響は甚大となる。situation.【0016】かかるガラス基板の破損等を未然に防止すべく、ステップ・アンド・リピート型の液晶用露光装置(例えば液晶ステッパー)などでは、露光用ステージと搬送アームとの干渉を防止するための干渉防止センサが設けられているものもあるが、かかる装置では、干渉を未然に防ぐことができる反面、経時的な変動等の要因以外の要因、例えば露光用ステージの高加速度移動時の反力による定盤の振動あるいは揺動等で露光装置80本体の姿勢変化量があるレベルより大きくなった場合にも干渉防士センサが干渉状態を検知して装置の運転を停止させることがあり、必要以上の装置の運転停止によりスループットが低下するという不都合があった。exposure),あるいはパターン禁止領域を増加させずマスクと基板との位置合わせを時間を掛けて行なう等の対応が必要となる。前者の場合、ガラス基板1枚当たりの液晶デバイスの生産量が減少し、後者の場合にはアライメントサーチ時間が増大し、いずれにしてもスループットの低下を招くという不都合がある。position,搬送アームを動かすことができず、このこともスループット低下の要因となっていた。this.【0019】本発明は、かかる事情の下になされたもので、請求項1及び2に記載の発明の目的は、処理装置の変動に起因して基板保持部の位置が変化しても、基板の受け渡しを適正に行うことが可能な基板搬送方法を提供することにある。of.【0020】また、請求項3に記載の発明の目的は、処理装置の変動に起因して基板保持部の位置が変化しても、基板の受け渡しを適正に行うことが可能な基板搬送装置を提供することにある。4,露光装置の基板保持部に対する基板の受け渡し時間を短縮することによりスループットの向上を図ることが可能な基板搬送装置を提供することにある。(42)前記基板(32)の搬送位置を補正する工程とを含む。(32).【0023】これによれば、基板に処理を施す処理装置の変動に起因した処理装置の基板保持部の位置変化を検出し、その基板保持部の位置変化に応じて基板の搬送位置を補正するようにしたことから、経年変化等による処理装置の姿勢変化に起因して基板保持部の位置が変化し、該基板保持部に対する基板の受け渡し位置が変化しても、基板の受け渡しを適正に行うことができる。variation,ステージ(42)の移動に起因するものであっても良い。(12-28)を制御する制御部(38)とを備えている。(38).【0026】これによれば、検出手段により基板に処理を施す処理装置の変動に起因した基板保持部の位置変化が検出されると、制御部によりこの基板保持部の位置変化に応じて搬送部が制御され、搬送部により基板が搬送される。このため、処理装置の変動に起因して基板保持部の位置が変化しても、処理装置の基板保持部に基板を適正に搬送することができる。(38),ステージ(42)が停止する以前に制御を実行しても良い。このようにすると、露光装置のステージが移動する際に、検出手段ではステージの移動に関する物理量を検出することにより基板保持部の位置変化を検出するので、制御部ではこの基板保持部の位置変化に基づいて搬送部に搬送される基板と基板保持部との相対位置関係を常に認識しつつ搬送部の制御を実行するので、ステージが停止する以前であっても、基板と基板保持部が設けられたステージとが干渉することなく搬送部の制御を実行し、基板を基板保持部に搬送することができる。従って、ステージが受け渡し位置に停止した後に、搬送部の制御を開始していた従来に比べてスループットの向上が可能になるとともに、ステージ上の基板保持部に対して基板の受け渡しを適正に行うことができる。inventionないし図4に基づいて説明する。FIG.【0029】図1には、一実施形態に係る基板搬送装置としてのガラス基板搬送装置10とともに処理装置としての露光装置40の概略構成が示されている。ガラス基板搬送装置10と露光装置40とは、ともに図示省略されたチャンバ内に収容されている。substrate6、この搬送アーム26を所定方向に移動させるY軸方向駆動系、X軸方向駆動系、Z軸方向駆動系、及び搬送アーム26をXYZの各軸回りに回転駆動させるY軸回り駆動系、X軸回り駆動系、Z軸回り駆動系等を有している。ガラス基板32の大きさは、一例として約500×600mmで、厚さが1.1mm程度である。directionY方向)に駆動する不図示のリニアモータ等から成る駆動装置とを含んで構成されている。14は、Z軸回り(矢印A参照)にも回転可能に構成されており、主柱14を中心として搬送アーム26を回転させることができるようになっている。186と一体的に水平方向(X軸方向)に移動する(図2矢印B参照)第2モータ収納部20とによって構成されている。20,第1の送りねじ18に螺合する送りナット(例えば、第1の送りねじ18がボールねじである場合には、このボールねじとともにボールねじ機構を構成するボールナット)とともに、この送りナットに対する第1の送りねじ18の回転を必要に応じて阻止する不図示のブレーキ機構も設けられている。このブレーキ機構が非作動状態のときには、第1の送りねじ18の回転により送りナットと一体的に第2モータ収納部20が第1の送りねじ18に沿って移動するが、ブレーキ機構が作動状態のときには第1の送りねじ18の回転により第2モータ収納部20がX軸回りに回転するように構成されている。本実施形態では、第1の送りねじ18と不図示のブレーキ機構とによってX軸回り駆動系が構成されている。mechanism.【0034】Z軸方向駆動系は、搬送アーム26をZ軸方向に駆動するもので、第2モータ収納部20内収納された不図示の第2モータと、この第2モータによって回転駆動される第2の送りねじ22と、この第2の送りねじの回転によって搬送アーム26と一体的に不図示の垂直ガイドに沿って上下動する(図2矢印D参照)第3モータ収納部24とから構成されている。ここで、垂直方向ガイドは、第2の送りねじ22の回転に伴って第3モータ収納部24がZ軸回りに回転しないようにするためのものである。axis.【0035】前記第3モータ収納部24内には、回転軸25を介して搬送アーム26をZ軸回りに回転駆動(図2矢印E参照)する不図示の第3モータが収納され、この第3モータと回転軸25とによりZ軸回り駆動系が構成されている。motorが設けられている。回転軸25の下端部にはY軸方向(図1及び図2の紙面直交方向)に突設されたガイドピン26bが設けられ、このガイドピン26bにコの字の形状を有する搬送アーム26の基端部に形成された円弧状のガイド溝26aが係合している。ローラ28は搬送アーム26の円弧状の外周面に圧接した状態となっている。このため、ローラ28を回転駆動することにより、ガイドピン26bに沿って円弧状のガイド溝26aが摺動し、これにより搬送アーム26が円弧状のガイド溝26a(及び円弧状の外周面)の曲率中心位置を中心とする揺動運動(円弧状運動:図2矢印F参照)をするようになっている。本実施形態では、不図示の第4モータと、ローラ28と、ガイドピン26bと、ガイド溝26aと、搬送アーム26の円弧状の外周面とによって搬送アーム26をY軸回りに駆動するY軸回り駆動系が構成されている。constructed.【0037】また、搬送アーム26の先端部(コの字の二股部)には図2に示されるように、真空吸着によりガラス基板32を着脱可能に保持する複数のバキューム穴26cが設けられている。(Y.theta),Z軸回り(Zθ)の回転駆動との6自由度方向に自在に移動させることができるようになっている。26を不図示のプレートケース(ガラス基板の一時保管箱)と露光装置40との間で移動させることができるようにもなっている。substrate).【0039】次に、処理装置としての露光装置40について図1に基づいて説明する。32.【0040】この露光装置40は、基板搬送装置10の一側(図1における右側)の隣接位置の床面30上に設置されている。この露光装置40は、基本的には、前述した図6の投影露光装置80と同様に構成されている。above.【0041】すなわち、この露光装置40は、複数(ここでは4つ)の防振パッド(除振パッド)31を介して床面30上に水平に保持された防振台48と、この防振台48上の定盤46と、この定盤46上に設けられたガイド49と、このガイド49上をX軸方向に沿って移動する露光用ステージ42と、この露光用ステージ42の位置を管理する干渉計44と、等倍正立正像の投影光学系PLとを備えている。image.【0042】ここで、防振パッド31としては、ダンピング液中に圧縮コイルばねを入れた機械式ダンパが用いられており、防振パッド31自体がある程度のセンタリング機能を備えている。このため、床面30からの振動が防振台48を含む該防振台48より上の部分である露光装置40の本体へ伝わらないようになっているとともに、防振台48が露光用ステージ42の移動等により傾斜しても水平に戻すようになっている。like.【0043】露光用ステージ42は、ここではいずれも図示を省略したが、実際には、断面コ字状のキャリッジと、このキャリッジの一方の側壁(図1における紙面手前側の側壁)の内面に設けられた、ガラス基板32を鉛直方向に保持する基板保持部としての基板ホルダと、他方の側壁(紙面奥側の側壁)の外面に設けられ、マスクを鉛直方向に保持するマスクステージとを備えている。ing.この内、マスクステージは、XZ平面内の微少駆動(回転を含む)が可能となっており、これによってマスクと基板ホルダ上のガラス基板との位置合わせ(アライメント)を高精度に行なうことができるようになっている。way.【0044】また、この露光装置40では、投影光学系PLが、コ字状のキャリッジの一方の側壁と他方の側壁との間に不図示の本体コラムを介して保持されている。carriage.【0045】このため、露光用ステージ42を、走査方向(ここでは+X方向)に移動させる際に、投影光学系PLに対してガラス基板32とマスクとが一体的に走査され、不図示の照明光源からの露光光により照明されたマスクのパターンがガラス基板32上に逐次転写されるようになっている。露光用ステージ42の走査方向の位置は、定盤46上に固定された干渉計44からの干渉計ビームBIXを露光用ステージ42の側面の反射面に照射し、その反射光を受光することによって、干渉計44によって計測されるようになっている。44.【0046】さらに、本実施形態では、露光装置40本体の姿勢変化を検出するため、定盤46に対向して検出手段としての6個の変位センサが配置されている。これらの変位センサとしては、ここではリニアポテンショメータが用いられているものとする。34a~34c、36a〜36cの配置について説明する。この内3つの変位センサ34a、34b、34cは、図3に示されるように、定盤46の端部下方の3個所にそれぞれ配置され、定盤46の鉛直方向(図3のZ軸方向)の変動(変位)を検出するようになっている。従って、これら3つの変位センサ34a、34b、34cの出力と、各センサの位置関係(配置情報)とに基づいて定盤46のZ方向変位とX方向の傾斜(すなわちY軸回りの回転)、Y方向の傾斜(X軸回りの回転)を検出することができるようになっている。46軸方向の変位量を検出するようになっている。残りの変位センサ36b、36cは、定盤46のY方向の一端面に対向してX軸方向に所定間隔で配置されており、これらの変位センサ36b、36cの出力の平均に基づいて定盤46のY方向の変位量を検出でき、両者の出力の差と両者の相互間距離とに基づいてZ軸回りの回転を求めることができるようになっている。6自由度の変位量を求めるのに必要な変位データを得られるようになっている。)、渦電流変位センサなどを用いて変位量を検出しても良い。上記の静電容量式センサや渦電流変位センサを用いる場合は、定盤46が導電体であればそのまま使用できるが、セラミック等の非導電体であれば計測部分に金属板等の導電体を貼り付ける必要がある。上記PSDを用いる場合は、計測面が光を反射する反射面としておく必要がある。the軸、Y軸、Z軸方向及びX軸回り、Y軸回り、Z軸回り)の変位量を前述した如くして演算する。40本体の変動の他、露光用ステージ42の移動によって生じる防振台48の変動量の両者を含む。position,露光装置40本体の姿勢変化量がどれだけあるかを見ていることに他ならない。10の位置を制御する際に必要な、受け渡し位置における露光用ステージ42(とりわけ基板保持部としての基板ホルダ)のどの位置にガラス基板32を搬送すれば良いかという搬送位置を求める場合、コントローラ38は、上記のようにして算出した定盤46の6自由度方向の変動量に基づいて幾何学的な計算を行なうことにより、装置稼動前の調整段階で位置出しを行った搬送アーム26の搬送位置(6自由度方向の目標位置)を補正する。コントローラ38には、露光用ステージ42の走査方向の位置を計測する干渉計44の計測値も入力されており、コントローラ38ではこの計測値に基づいて露光用ステージ42が受け渡し位置以外の場所に居る場合でもその位置を把握することが可能となっている。in.【0054】次に、図1に基づいて、本実施形態のコントローラ38によるガラス基板の搬送動作を含む露光処理シーケンスについて説明する。露光装置40の制御は、不図示の露光系制御装置により行われている。40との装置状態を認識している。time2のX,Y,Z,Xθ,Yθ,Zθ方向の調整量(各自由度方向の目標値)がコントローラ38内の内部メモリに記憶されているものとする。Z.thetaの目標値は基板ホルダと搬送アーム32とが互いに平行になるときの値となる。同様に、装置稼動前の調整段階における定盤46に対向して配置された6個の変位センサ34a〜34c、36a〜36cからの出力値も基準値としてコントローラ38内の内部メモリに記憶されているものとする。are.【0056】まず、コントローラ38では、図1に示される主柱14を180°回転させて搬送アーム26を図1の仮想線26'で示される位置に移動させた後、搬送アーム26をZ駆動系を介して下降駆動して基板搬送装置10の図1における紙面左方向に配置されている不図示のガラス基板の一時保管箱であるプレートケースから未露光のガラス基板32を受け取る。このガラス基板32の受け取りの際に、バキューム穴26cを介してガラス基板32が搬送アームに吸着保持される(以下の説明中においても搬送アームがガラス基板を受け取る際には、同様である)。same).【0057】そして、コントローラ38ではガラス基板32を吸着保持した搬送アーム26を上昇駆動し、再度主柱14を180°回転させるとともに、X軸方向駆動系を介して搬送アーム32のX位置を調整して図1の実線位置までガラス基板32を搬送する。このガラス基板72を基板ホルダに渡す際に搬送アーム26によるガラス基板の吸着が解除される(以下の説明中において、ガラス基板を相手方に渡す際は同様である)。その後、コントローラ38では、空の搬送アーム26を図1の実線位置まで上昇駆動して待機させる。X方向)に走査する間に、投影光学系PLを介しての不図示のマスクのパターン像がガラス基板32上に転写される。この露光用ステージ42の走査露光の際の制御は、干渉計44の出力をモニタしつつ露光装置40の不図示の露光系制御装置によって行われる。44.【0060】このようにして露光(マスクパターン像のガラス基板32上への転写)が終了すると、露光済みのガラス基板32を保持する露光用ステージ42は、再び受け渡し位置(42'の位置)まで戻されるが、この露光用ステージ42が受け渡し位置に戻って停止する以前に、コントローラ38では、搬送アーム26の−Z方向への移動制御(下降駆動)を開始し、露光用ステージ42が受け渡し位置に停止後、間もなくして定盤46の振動があるレベル以下になった時点で搬送アーム32を目標位置まで移動させてガラス基板32を露光用ステージ42から受け取る。c,干渉計44の出力とに基づいて、所定の演算処理を行なうことにより、リアルタイムで露光用ステージ42の正確な位置を常に把握できるためである。time.【0062】搬送アーム26が露光用ステージ42から露光済みのガラス基板32を受け取った後、コントローラ38では搬送アーム32を実線で示される位置まで上昇駆動し、主柱14を180°回転させてプレートケース(図示省略)へガラス基板32を渡す。これにより、1回の露光シーケンスが終了する。ends.【0063】ところで、本実施形態のような走査型の投影露光装置では、ガイド49上を露光用ステージ42が走査方向に大きく移動すると、露光装置40本体の重心位置が移動し、ガイド49が搭載された定盤46が防振台48と一体的に所定周波数で揺動する(ここでは、機械共振等は無視するものとする)が、通常は防振パッド31のセンタリング機能により時間の経過と共にこの揺動が減衰されて定盤46は初期状態である水平状態に戻される。この場合には、露光用ステージ42は、所定の受け渡し位置である図1中の42'の位置に正確に位置決めされる。etc.8を支持する防振パッド31を構成する圧縮コイルばね等の除振用部材が劣化すると、定盤46が初期状態である水平状態に戻らずに傾いた状態で静止するようになる。この場合には、露光用ステージ42がガイド49上で受け渡し位置に停止したとしても、XYZ3次元空間ではその位置が、装置調整段階で予定されている本来の受け渡し位置からずれるようになる。stage.【0065】このような場合、従来であれば、搬送アーム26を最初にコントローラ38内の内部メモリに記憶されている目標位置まで移動した場合にも、ガラス基板32の搬送位置と露光用ステージ42上の基板ホルダとの相対位置関係が位置出し時の相対位置関係からずれるようになってくるため、ガラス基板32を露光用ステージの所定の位置に受け渡すことが不可能になり、このため搬送アーム26等の再度の位置出しを行なう等の対策が必要であった。42の搬送位置)を補正し、その補正後の搬送位置にガラス基板32を搬送することにより、定盤46の姿勢変化の影響を受ける事無く、ガラス基板32の搬送位置と露光用ステージ42上の基板ホルダとの相対位置関係を位置出し時の相対位置関係に維持してガラス基板32を露光用ステージ42の所定の位置に受け渡すことが可能になる。32と露光装置40の露光用ステージ42とが干渉するという事態が生ずることもない。interferes.【0067】以上説明したように、本実施形態によると、露光装置40本体の姿勢が変化しても、再度の位置出しが不要であり、従ってこのために装置を停止する必要もない。32の破片の除去のため装置を長時間停止する必要もない。干渉防止センサ等を用いていないので、頻繁に装置が強制停止されることもない。露光装置40本体の姿勢変化に対応して搬送アーム26の目標位置を補正するので、基板ホルダ上でのガラス基板の位置がずれることがなく、その対策として、パターン禁止領域を増加させたり、あるいはマスクと基板との位置合わせに時間を掛ける必要もないので、これらの要因によってスループットの低下を招くこともない。42')に停止する以前に搬送アーム26の移動制御を開始することから、その分、ガラス基板32の受け渡し時間を一層短縮することができ、これによりスループットの向上を図ることが可能である。throughput.【0069】なお、上記実施形態では、本発明に係る基板搬送装置が液晶用の縦型の走査型の露光装置40に対する基板の搬送用として用いられる場合について説明したが、これに限らず、例えば図4に示されるような液晶用のステップ・アンド・リピート型の投影露光装置(いわゆる液晶ステッパー)56に適用しても良いことは勿論である。ここで、図4において、上記実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号が付されている。この図4は、ガラス基板搬送装置10がガラス基板32の搬送用として用いられる露光装置56の概略平面図である。この露光装置56では露光用ステージ54上にガラス基板32を水平に載置して露光処理が行なわれる。34a~34c、36a〜36cがそれぞれ図3の場合と同様な位置に配置されており、コントローラ58は、それらの各変位センサの出力に基づいて演算処理を行うことにより、定盤52の変動量(装置稼動前の調整段階における位置からのずれ)を求めている。従って、この図4の場合であっても、上記実施形態と同等の効果を得ることができる。example,図5に示されるような機構を採用することも可能である。この図5の機構について簡単に説明すると、X軸回り駆動系119は、支持部材114の先端部に設けられたモータ116と、このモータ116の回転力により駆動ベルト117を介してX軸回りに回転駆動される(矢印C参照)軸118とによって構成されている。Also,Z軸回り駆動系123は、軸118に鉛直方向に且つ回転自在に支持された軸125と、この軸125を駆動ベルト121を介してZ軸回りに回転駆動する(矢印E参照)モータ120とによって構成されている。by.【0072】また、上記実施形態では、基板搬送装置によって搬送される基板を処理する処理装置が、液晶用の投影露光装置である場合について説明したが、本発明がこれに限定されるものではなく、処理装置としては、例えば、基板の受け渡しを精密に行う必要のある基板の欠陥検査装置や精密工作機械などが挙げられる。[0073]【発明の効果】以上説明したように、請求項1及び2に記載の発明によれば、処理装置の変動に起因して基板保持部の位置が変化しても、基板の受け渡しを適正に行うことが可能な基板搬送方法が提供される。be.【0074】また、請求項3に記載の発明によれば、処理装置の変動に起因して基板保持部の位置が変化しても、基板の受け渡しを適正に行うことが可能な基板搬送装置を提供することができる。provide.【0075】更に、請求項4に記載の発明によれば、露光装置の基板保持部に対する基板の受け渡し時間を短縮することによりスループットの向上を図ることが可能な基板搬送装置を提供することにある。DRAWINGS【図1】一実施形態に係るガラス基板搬送装置と処理装置としての走査型の投影露光装置の概略構成を示す図である。embodiment.【図2】図1のガラス基板搬送装置における搬送アーム付近の拡大図である。FIG.【図3】定盤の姿勢変化を計測する変位センサの配置例を示す斜視図である。plate.【図4】処理装置としてのステップ・アンド・リピート型の投影露光装置の概略構成を示す図である。apparatus.【図5】ガラス基板搬送装置の搬送アームの駆動機構の他の例を示す図である。device.【図6】従来例を示す説明図である。前記処理装置の変動に起因した前記基板保持部の位置変化を検出する工程と;前記基板保持部の位置変化に応じて、前記基板の搬送位置を補正する工程と;を含むことを特徴とする基板搬送方法。前記変動は、前記ステージの移動に起因するものであることを特徴とする請求項1に記載の基板搬送方法。前記基板を搬送する搬送部と;前記処理装置の変動に起因した前記基板保持部の位置変化を検出する検出手段と;前記基板保持部の位置変化に応じて、前記搬送部を制御する制御部とを有することを特徴とする基板搬送装置。前記制御部は、前記検出された位置変化に基づいて前記ステージが停止する以前に前記制御を実行することを特徴とする請求項3に記載の基板搬送装置。