此外,由于栅绝缘层45介于栅线41与突起图案51之间,因此栅线41与突起图案51绝缘。46上形成像素电极43。G和B滤色片层32,以及涂覆层33。形成柱状衬垫料150。从而,形成多个突起和/或凹槽。如上所述,在将TFT阵列基板100和滤色片阵列基板200对准之后,将取向材料印制在TFT阵列基板100和滤色片阵列基板200的外表面上。IPS模式LCD器件的平面图。如图13和图14中所示,LCD器件包括TFT阵列基板100、滤色片阵列基板200、柱状衬垫料150以及液晶层55。TFT阵列基板100包括薄膜晶体管TFT。200上以面对TFT阵列基板100的薄膜晶体管TFT。柱状衬垫料150具有多个突起和/或凹槽。后,在TFT阵列基板100与滤色片阵列基板200之间形成液晶层55。47a和像素电极43。