形成柱状衬垫料150。从而,形成多个突起和/或凹槽。摩擦取向材料,从而形成定向层(未示出)。TN模式LCD器件的平面图。参照图1?和图18,该TN模式LCD器件包括TFT阵列基板100、滤色片阵列基板200、柱状衬垫料150以及液晶层55。TFT阵列基板IOO包括薄膜晶体管TFT。200上并且面对TFT阵列基板100的薄膜晶体管TFT。柱状衬垫料150具有多个突起和/或凹槽。后,在TFT阵列基板100与滤色片阵列基板20之间形成液晶层55。TFT阵列基板100包括栅线41、数据线42、薄膜晶体管TFT和像素电极43。薄膜晶体管TFT包括栅极41a、源极42a、漏极42b和半导体层44。栅极41a从栅线41突出。此外,源极42a与漏极42b彼此间隔开。45,以覆盖栅线41和栅极41a。钝化层46夹在漏极42b与像素电极43之间。46上形成像素电极43。G和B滤色片层32和公共电极34。