カテゴリ:光とレーザーの科学技術フェア真空プロセスには高純度化があたりまえとなっていますが,やはりパーティクルのモニタリングは重要です。ウィックスが出展するのは,レーザー光散乱方式のIn-situ計測用パーティクルモニターです。プロセスチャンバーに挿入,あるいはチャンバー内に設置を可能としています。粒子識別能力は300nm以上。使用真空度は5,000Pa以下,対応粒子速度は<4m/s。生産管理に必要な不可欠なセンサーとなっています。同社はこのほか,インフィコン社製質量ガス分析計(RGA)や水晶振動子・膜厚コントローラ・モニター・センサーも出展する予定です。光ファイバ通信技術に焦点をあて、研究開発の変遷、要素デバイス、WDMやデジタルコヒーレント伝送技術に至るシステムに必須技術を分かりやすく解説。X線、レーザー、オプティクスなどの技術分野が一堂に会する専門展です。求職者と求人企業、双方によりメリットのある「採用・就職」のお手伝いをいたします。