JV-DXは、材料の研究、プロセス開発、品質管理のための半導体薄膜解析用X線計測システムの最新世代です。完全自動化された入射光学系を搭載しているため、ユーザーの介入なしに標準のXRD、高分解能、X線反射率測定を切り替えることができます。結晶子径測定など、薄膜用途向けの様々なアプリケーションを測定するために設計されています。mmのフルウェハマッピングと大小サンプルの両方に対応しています。小さいサンプルの複数同時乗せ試料ステージにより、複数のサンプルにわたって複数の測定をキューに入れ、異なる測定タイプを実行した場合でも自動的に実行できます。JV-RADSやJV-REFSなどの最先端データ解析パッケージは、専門的なデータの提示と解釈が容易に可能です。JV-DXは、現在および将来の薄膜材料研究に理想的なマルチアプリケーションツールです。