(TMSBr法)注意事項ーTips参考まとめMOM基(モノメトキシメチル基)とはMOM基はアセタール系のアルコールの保護基です。MOM基は塩基加水分解条件に強く、求核剤や還元にも耐えます。他のアセタール系の保護基のTHP基よりも酸に強いです。MOM基は立体障害が小さく嵩高いアルコールに対しても保護しやすいです。MOMの脱保護は酸性条件下で行います。プロトン化したアルコールの酸素が押し出される形で脱保護されます。反応後に生成した中間体は求核性のある溶媒による攻撃を受けて消費されます。反応条件-保護MOM保護は塩基性条件下でMOM-Clと反応させて行います。塩基としてはDIEAやNaHを使います。塩基性条件では問題がある場合はMOMのジメチルアセタール(CH2(OMe)2)を用いると酸性条件下でアセタール交換によりMOM保護することができます。酸触媒としては、TsOH、TfOHが用いられます。4時間撹拌した後、反応を水でクエンチした。有機層を分離し、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後得られた残渣をカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン1:5から1:2)で精製し保護体を得た(63%)。立体障害の小さい第一級アルコールが優先して生成しています。K2CO3よく利用される溶媒:ジクロロメタン、THF、AcOEt、DMF、アセトン、メタノールDMAPなどを入れる例もある。脱保護反応例MOMの脱保護は酸性条件で行うことが多く、TFA/ジクロロメタン条件がよく使用される。HClが溶けた有機溶媒(EtOAc、エーテル、ジオキサン、エタノール)等も使用される。ギ酸を用いる例や陽イオン交換樹脂/MeOH等も利用できます。用いて脱保護することも可能です。TMSBrを用いることによって、エステルやベンジルエーテル、TBDPS基を切断せずに除去ができる(THP、Tr、TBS、Acetonideは脱保護されうる)。mL)を加えて室温で24時間撹拌する。NaHCO3水溶液を加えてHClを中和し、MeOHを除去した。水を加え、EtOAcで抽出した。有機層をブラインで洗浄、乾燥し、溶媒を除去して絵得られた粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/40〜50%の酢酸エチル)で精製し目的物を得た(92%)。mmol)を加えて-20度で3時間撹拌した後、0度に温めて、さらに2時間撹拌した後、反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でクエンチした。ジクロロメタンで希釈し、セライトろ過した。濾液をジクロロメタンで抽出し、有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過、そして減圧下で濃縮した。フラッシュシリカゲルクロマトグラフィーを用いて残渣を精製し目的物を得た(71%)。反応を行う事もできる。コメントをキャンセルメールアドレスが公開されることはありません。(3)科学系ブログです。