高度なグラフェン特性測定を可能にするブルカーのAFM個々のグラフェン薄片を分析し、原子レベルまでのナノスケールの詳細情報が得られる原子間力顕微鏡は、ガイムとノボセロフのノーベル賞受賞によりグラフェン研究が本格的に開始されて以来、この分野に欠かせないテクニックとなっています。より取得した初期のタッピングモードイメージでは、これまでは解析不可能だと考えられていた単層グラフェンが明確に観察されました。この発見後、グラフェン研究が爆発的に発展しました。ブルカーのAFMを用いた論文はこれまでに100本を超えています。した研究の例としては、グラフェンおよびグラフェンオキサイド生成に関する研究があり、特に大規模化可能なグラフェン製造を実現するためには、一貫した製品純度と欠陥密度の低さが重要となります。フレキシブルディスプレイや高速エレクトロニクスから、アクチュエーター、バイオセンサー、複合材料まで、グラフェン活用が見込まれるさまざまなアプリケーションも研究されています。お客様のグラフェンアプリケーションについてお教えください。高度な特性測定は、AFMを用いたグラフェン研究におけるエキサイティングな発見に大きく貢献しています。2012)はグラフェンの層化現象を明らかにしました。2013)は、電気装置への応用する際に電極接合を制御するグラフェンと金属の相互作用を定量的に解析しました。2011)などがあります。ブルカーの最新技術は、今後のさらにエキサイティングな進歩を約束するものです。ハイブリッドデバイス研究を拡大させ、より優れた空間分解能、より定量的な測定を実現する力を秘めています。同時機械的特性マッピングにより、局所的な材料分布との相関を明らかにすることも可能です。役立つかもしれません。この技術は、機械的にもろいほとんどのサンプルの測定において、最高の空間分解能を提供するものです。QNM分析により、いっそう多くの知見が得られるものと予想されます。QNMモードには、3次元結晶研究において原子欠陥が検出できるほどの分解能をもつ特性マッピングができる可能性を示します。facilityグラフェン開発でノーベル賞を受賞した研究者によるNbSe2(a)およびグラフェン(b)のタッピングモードイメージ。ブルカーのMultiModeを使用。-基板距離を明らかにした。Sciencesグラフェン開発でノーベル賞を受賞した研究者によるNbSe2(a)およびグラフェン(b)のタッピングモードイメージ。ブルカーのMultiModeを使用。-基板距離を明らかにした。SciencesSiO2上で形成されたグラフェン薄片の形状イメージ。連続層のあいだに予想された300pmのグラフェンステップが見える。ラマン分光法では、Gバンド強度からグラフェン層構造のマッピングができます。グラフェン格子乱れを示す1350cm-1付近のDバンド強度。このDバンドイメージは、サンプルの単層部の端に沿った、欠陥の多くなる領域を示している。QNMを用いてさらに高空間分解能でこの領域を分析したところ、観察された格子の乱れ原因に関する詳細な情報が得られた。このPeakForce-KPFMイメージからは、単層から二重層グラフェンの仕事関数の変化は80mVだが、その後、各連続層で減少していくことがわかる。このイメージの左端からは、興味深い効果が見てとれる。単層の仕事関数がSiO2/グラフェン境界で高くなっている。これは、SiO2基板に捕捉された電荷に起因する局所的な電場変化によるものと考えられる。分析対象領域におけるグラフェン層のしわを示すAFM形状イメージ。詳細な機械特性測定により、欠陥の多い領域では、乱れのない層領域に比べて、容積弾性係数(コンプライアンス)が大きく、吸着力が小さい微細構造が表れている。このため、この領域でグラフェン層にしわができるものと考えられる。変形量チャンネルでは、基板上よりもグラフェン薄片上大きな変形量が見られる。このことから、グラフェン薄片はローディング時にはシリコンよりもやわらかいが、QNM測定のミリ秒未満のアンローディング時に機械的に弛緩しないものと推測できる。この弾性率イメージでは、容積弾性係数(コンプライアンス)の大きい微細構造が、弾性率マップイメージの暗い領域として示されている。