トラッキングジェネレータ内蔵。2GHzの4ch入力。立ち上がり:225ps。50Ω終端で5Vrms、1MΩ終端で250V。測定範囲:L(0.001nH-199.99H)、C(0.01fF-199.99μF)、R/|Z|(0.01mΩ-19.999MΩ)、D(0.00001-9.9999)、Q(0.01-9900)、G/B(0.01nS-19.999S)、θ(0.01°-180.00°)。測定周波数:10KHz-10MHz。測定周波数:40Hz-200KHz。出力波形:正弦波、方形波、パルス波、ランプ波、その他(Sin(x)/x、指数立上り、指数立下り、Gaussian、Lorenz、Haversine、DC、ノイズ)、任意波形。周波数範囲:1μHz-240MHz。電圧0~±110V、電流0~±2Aの発生・測定範囲を持つ直流電圧・電流源/モニタ。標準のGerberフォーマットを利用可能。自動ツール交換機能付き。仕様のイエロークリーンブース。アッシング、エッチングなどに利用可能。強酸対応可能なPVC製ドラフトチャンバー、フォトリソグラフィーのエッチング工程などに可能。スピンコーター、マスクアライナー、ホットプレート、電気炉、プラズマクリーナー、ドラフト等を利用して、各種レジスト塗布、露光、現像などのリソグラフィー作業が可能。PC上で作画した任意のパターンデータを入力することで、フォトマスクを用いることなく直接基板上の感光性樹脂材料(フォトレジスト)に転写可能。真空中で金属の薄膜を試料表面に形成する装置。2基のマグネトロンカソードを備え、積層膜の成膜が可能。スパッタガス(Ar)の他、反応性ガス(N2)が使用可能。