MODEL-PF独自に開発した触媒の使用により、各種半導体用ガスの精製に優れた性能を発揮します。精製筒、高性能フィルターおよびダイヤフラムバルブの一体構造によるコンパクト化を実現し、よりユースポイント近くでの精製が可能です。高性能フィルターおよび出荷前のベーキング処理によりパーティクル/脱ガスについての万全の対策を施しています。特別なユーティリティの必要はありません。(N型、B型は再生可能です。1,000ppbのN2ガス)を精製した結果です。※ガス中粒子除去率は0.01μm以上の粒子に対して99.9999999%以上です。≦1※精製ガス純度0.1ppb対応も可能です。(オールメタルダイヤフラムバルブ使用)※ガス中粒子除去率は0.01μm以上の粒子に対して99.9999999%以上です。□内には適用ガス種を表すH、A、N、Bのいずれかの記号が入ります。混合ガスの場合はバランスガスも含みます。(参考)8.5MPa充填47lボンベのガス量は約4m3(nor)です。etc※上記ガス種以外はご相談ください。0.01μm対応小型テフロンメンブラン本フィルターは半導体用ガスフィルターとして、当社がクリーンガス供給システムに関する技術を基に開発した、高性能なインラインガスフィルターです。差圧0.02MPa以下でのご使用をお勧め致します。※Swagelokタイプは袋ナットを含んだ寸法です。差圧0.02MPa以下でのご使用をお勧め致します。※Swagelokタイプは袋ナットを含んだ寸法です。差圧0.02MPa以下でのご使用をお勧め致します。(注)圧力単位は1kgf/cm2G=0.1MPaで換算しています。※Swagelokタイプは袋ナットを含んだ寸法です。差圧0.02MPa以下でのご使用をお勧め致します。(注)圧力単位は1kgf/cm2G=0.1MPaで換算しています。795※標準はパイプ突出し(突合せ溶接)です。その他の継手をご要望の場合は、ご相談下さい。最大使用差圧以上でのご使用は、避けて下さい。その他の材質をご要望の場合はご相談下さい。特殊材料ガスでのご使用の場合は、XLF型を選定して下さい。(注)圧力単位は1kgf/cm2G=0.1MPaで換算しています。※袋ナットを含んだ寸法です。450°Cベーキングが可能なステンレスフィルターSUS316Lステンレスエレメントの採用で、きわめて脱ガスが少なく、かつ、450°Cのベーキングが可能な高性能なインラインガスフィルターです。標準はパイプ突出し(突合せ溶接)です。その他の継手をご要望の場合は、ご相談下さい。入口圧力0.4MPa(4.0kgf/cm2G)、差圧0.03MPa(0.3kgf/cm2)のときの流量です。reserved.HOME|企業情報|製品情報|サイトマップ|ガス精製装置|排ガス処理装置|酸素マスク|お問い合わせ|採用情報|個人情報保護|。