354、364、374呈层叠结构。是,在第二实施例中,低阻导电膜352、362、372由与上述遮光膜302为同一层构成。形成遮光膜302以及低阻导电膜352、362、372。300为中心,说明这样的基板300的制造工艺。对树脂层303”曝光并显影。(感光部分),形成多个突起303a。通过该加热处理,突起303a软化,使角部分呈圆形。另外,根据在散射树脂层303上求得的散射特性,选定树脂层303”的材料(粘度和膜厚等)、突起303a的形状、间距等。对反射层304'进行构图,形成反射膜304。因此,如图20(f)所示,在形成了开口部309的反射膜304上形成分别对应于R、G、B各色的滤色片305R、305G、305B。(例如铬),使低阻金属层302'成膜。302,另外,在密封剂边框外,除了构成布线350的低阻导电膜352以外,形成了构成布线310、360、370的低阻导电膜312、362、372。