Technologies社は、半導体露光装置のリソグラフィに必要な各種テスト・レティクルを提供しています。オリジナル・マスク・デザイン及び製作も行なっています。Reticleは日本国内はもとより世界各国で愛用されているヒット商品です。Reticle特長これまでのフォーカス決定法では、フォーカスを振って多数の露光を行なうことが必要でした。露光と現像処理を多数行ない、得られたデータ(最狭残留ピンバーまたは潜像コントラスト)とフォーカス・オフセットの関係をプロットします。この方法は時間がかかるうえ、結果はオート・フォーカス・オフセット機能の精度に依存します。これに代わる方法として、レジストを使わずに光学像を測定する方法が使われていますが、この方法ではウエーハの平坦度などの重要な問題が考慮されません。技術が利用されています。フォーカスモニターのパターンには、以下に示す優れた特長があり、フォーカスとレンズ系の最適条件を迅速かつ高信頼性で決定できます。露光量に依存せず、かつ定量的なフォーカスデータを提供します。(2)レンズに対する熱の影響を迅速に定量的に評価します。(3)フィールド・ティルト、ウエーハの平坦性、オートフォーカスなどのシステム特性についてのデータを収集します。(4)実際のプロセス条件下でのデータを収集します。時間とコストを大幅に節約。ウエーハを1枚露光するだけで、フォーカス誤差を定量的分析の容易なパターンに変換できます。(6)統計的工程管理(SPC)データを自動収集。これにより作業者の主観を排除します。既存のほとんどすべての露光装置で使用可能です。