LITHOTRACシリーズリソトラックは、研究開発用途から生産用途まで、半導体製造プロセスに関わるあらゆる分野に適応可能なレジスト塗布・現像・ベーク装置です。自由度の高い設計とリソテックジャパンならではのフォトリソグラフィの知識と経験を活かし、お客様のご要求に沿って最適な仕様でご提供しています。Dual-1000概要レジストスピン塗布ユニットとレジスト現像ユニットを混載したモデルです。ベークプレート、クーリングプレート、HMDS処理ユニット、クリーン基板搬送ロボット等を自由に組合せできます。2インチ以下の小片基板から300mmウェーハまで、ご要望に合わせた仕様でご提供しています。CB-50概要プロセスや各種塗布材料に応じた機能を備え、最適な塗布処理が行える自動スピン塗布装置です。マスク等のメーカーの研究開発部門から生産用途まで幅広い分野で採用されています。特長ArF等の化学増幅型レジストから厚膜レジスト、ポリイミド等まで各種塗布膜に対応したモデルやオプションをご用意しています。露光後のPEB処理から現像、リンス処理、ハードベークまで安定した処理が連続で行えます。安全性と使いやすさに配慮した有機現像仕様もラインナップしています。各種現像方式や基板形状に合わせお客様へ最適な装置設計を行います。用途の応じて吐出圧を抑えた現像液滴下ノズル機構、プログラマブルスイングノズル、繰返し現像機能、高温/低温現像等ご要望に沿った仕様でご提供します。