気体と液体の性質を併せもつ超臨界流体について,半導体・MEMSのユニットプロセスへの応用をわかりやすく解説した。デバイス・プロセスデバイスプロセス発行年月日2012/09/28判型A5ページ数240ページISBN978-4-339-00837-1立ち読みご意見・ご感想はこちら在庫あり定価3,740円(本体3,400円+税)カートに入れる電子版を購入(他社サイトに遷移します。液体の性質を併せもつ超臨界流体について,その特長と,乾燥,めっき,薄膜堆積,洗浄など,半導体・MEMSのユニットプロセスへの応用をわかりやすく解説した,超臨界流体のマイクロプロセス応用としては初めての本。上記雑誌に書評が掲載されました。生産技術が求められる現在、超臨界流体の活用が必要となってきており、微細化の進む半導体プロセスや様々な構造体が複合するMEMS分野での活用が期待されている。本書は、超臨界流体のマイクロエレクトロニクスへの応用について言及した点が特徴で、既存のプロセスの代替という観点に絞って詳述した。いった半導体・MEMSプロセスへの応用について、わかりやすく解説している。-半導体はエレクトロニクス全般の中心的な役割を果たし,一層の拡大が期待される。本書は,半導体市場で大きな役割を占めるSiLSIの製造プロセスについて,個別の要素プロセスの位置付けと関連する課題に重点を置いて解説した。-広範な集積回路技術を基本から学ぶ学生や研究者向けに,基礎的な理論とプロセス・デバイス技術を,数値例,演習問題を豊富に取り入れて解説。新版では,MOSのアナログ回路など新しく重要度の増してきた技術の記述を強化した。-本書は,半導体技術の発展の大きな役割を担ってきた半導体デバイスの動作原理に関して図を多用し,基礎から詳しく解説した。トンネル現象を応用したデバイスや最新の機能デバイスについても取り上げた。Bands-の翻訳本。半導体デバイスの電子伝導を理解できるよう解説した。溶射法の種類,溶射材料とプロセス,皮膜の評価法などについて具体的に解説。基礎ドライプロセスの基礎を学ぼうとする初学者のための入門書。