得られた感光層の厚さは10μmであった。0106[感光性エレメントの透過率の測定]次いで、得られた感光性エレメントを厚さ0.5mmで縦4cm×横4cmのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ(日立化成テクノプラント株式会社製、HLM−1500型)を用いて、ロール温度110°C、基板送り速度0.5m/分、圧着圧力(シリンダ圧力)0.3MPaの条件でラミネートしガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。0107次いで、得られた積層体の感光層に、大型マニュアル露光機(大日本スクリーン製造株式会社製、MAP1200L)を使用して、感光層側上方より露光量100mJ/cm2で(i線(波長365nm)における測定値)、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、感光層(光硬化した硬化膜)厚10μmの透過率測定用試料を得た。(V−570型)を使用して、測定波長域300〜800nmで可視光線透過率を測定した。測定結果としては、全光線透過率97%以上、また400nm透過率も95%と比較例1と同等の透明性を有した。0109[感光性エレメントの解像度測定]得られた感光性エレメントを厚さ0.5mmで縦4cm×横4cmのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ(日立化成テクノプラント株式会社製、HLM−1500型)を用いて、ロール温度110°C、基板送り速度0.5m/分、圧着圧力(シリンダ圧力)0.3MPaの条件でラミネートしガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。活性光線遮光部が交互にパターニングされた、スクエアの開口径5〜100μmのフォトマスクを用い、支持フィルム上にフォトマスクを載置し、大型マニュアル露光機(大日本スクリーン製造株式会社製、MAP1200L)を使用して、フォトマスク面垂直上方より露光量20mJ/cm2で(i線(波長365nm)における測定値)、紫外線を像的に照射した。0111次いで、感光層上に積層されている支持フィルムを除去し、2.38質量%水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)溶液を用いて、25°Cで14秒間ディップ現像して、感光層を選択的に除去しパターンを形成した。得られたパターン付き基板の、選択的に感光層を除去した部分の基材表面状態を顕微鏡で観察し評価した。評価用試料の表面状態を観察したところ、15×15μmのスクエア開口パターンが残渣なく形成され、これを解像度とした。0112[感光性エレメントの比誘電率測定]得られた感光性エレメントを厚さ0.5mmで縦4cm×横4cmのp型シリコンウェハ基板上に、感光層が接するようにラミネータ(日立化成テクノプラント株式会社製、HLM−1500型)を用いて、ロール温度110°C、基板送り速度0.5m/分、圧着圧力(シリンダ圧力)0.3MPaの条件でラミネートし、p型シリコンウェハ基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。