ODG光設計研究グループホームページについてのお問い合わせは、master2015*opticsdesign.gr.jpまで。め入射で光を入れるエリプソメータで、平面を一括測定するためにシャインプルーフの条件を使うなど、既存の技術をうまく組み合わせ、理にかなった設計思想でエリプソメータの2次元計測を実現したことが高く評価されました。薄膜・表面の特性を非破壊・非接触で評価できる計測器の性能向上は意義深く、半導体産業などへの貢献につながると考えられ、光設計奨励賞を授与します。概要エリプソメータは、半導体・材料・バイオなどの分野で、被検試料の光学特性や薄膜厚さの測定機器として使用されている。現在のエリプソメータのほとんどは点計測用である。一回の測定で、被検試料上の一ヶ所しか測定できない。本技術は、広範囲の被検試料の2次元情報を高分解能・高精度で一括測定するイメージングエリプソメータの開発に関するものである。従来の透過型レンズ系の代わり、試料面に対して光学系をチルトしてもSCHEIMPFLUG条件で像面をチルトすることより結像性能を維持する反射型OFFNERイメージング光学系を設計している。光学素子に存在する2次元的製造誤差も補償している。