独自の研究開発の末に実用化した多彩なプラズマ制御技術を融合した、画期的な真空成膜(蒸着)プロセスです。絶縁膜などの良質な薄膜作製を実現し、同時にスプラッシュも抑制。低抵抗の透明導電膜(ITOやZnO酸化亜鉛など)が高速で作製できる。従来比3~4倍の高速成膜で緻密で耐スパッタ性に優れたMgO膜が作製できる。優れた膜が高速で作製できる。酸化物、窒化物などの複合膜や多層膜が簡単に作製できる。従来成膜法では物足りなかった、1クラス上の成膜ニーズにお応えします。Carbon)膜が形成できます。硬く、平滑な膜を高速で作製します。N2ガスを使って窒素プラズマを生成できるので、金属基材へのプラズマ窒化処理による表面硬化処理も可能です。【SUPLaDUO】Si基板上に成膜したSixOy膜を断面SEM写真で比較すると、SUPLaDUOでは緻密な膜が形成されています。SUPLaDUOでは非加熱成膜なうえ、成膜速度は10nm/secと高速です。Type真空成膜装置SUPLaDUOは、開発用から本格量産用まで、多様なニーズに最適なシステムを提供しています。システムの搭載が必須です。(大阪府堺市)お申し込み・お問い合わせは「受託テストのお申し込み」フォームをご利用ください。装置概要イオン化率の極めて高い低電圧・大電流の高密度プラズマに、独自のプラズマコントロール技術を融合した真空成膜装置SUPLaDUO。材料の導電性/絶縁性を問わず成膜できます。スパッタリング法に比べて成膜速度が速いうえ、基材側への低ダメージ成膜が可能です。グローブ付帯装置では、低露点下での処理ができます。汎用バッチ装置では基材のボンバード、プラズマ窒化、イオンプレーティング、CVDなどの複合連続処理ができます。●加熱温度:300°C▼テスト概要の説明項目(テストお申し込みの際、これらの項目をご参考に、概要説明願います。)・基材(材質、寸法、耐熱)・成膜膜種(材料、膜厚)※材料はペレット材となります。受託テストのお申し込み・お問い合わせテストは基本的に有償です。(テスト詳細が確定後、お見積書を提出いたします。)テストを希望される方は、下記の「受託テストのお申し込み」ボタンをクリックし、「テストお申し込み専用フォーム」に必要事項を入力のうえ、送信してください。ご依頼内容によっては、お断りする場合もあります。テスト装置の使用状況により、長期間お待ちいただかなければならない場合があります。