真空装置での成膜に必要な基板やターゲット材料などに関しても扱っています。シリコン単結晶基板,酸化物単結晶基板などの結晶基板、および金属基板,セラミックス基板,エピ基板等各種基板を扱っています。酸化物,窒化物,炭化物などの化合物ターゲットや金属ターゲット、さらにタブレットやパウダーなど各種薄膜原料を扱っています。高純度・高融点マテリアル6〜7Nの高純度金属や高純度化合物,高融点金属などを扱っています。茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。関連技術情報3件を掲載しました。