全てチェックこの画面全ての商品をお気に入り、お問い合わせ、が出来ます。お気に入りこの画面でチェックが付いた製品を右側のお気に入りに登録できます。お問合わせこの画面でチェックが付いた製品をお問い合わせできます。印刷この画面をプリントできます。駆使しており、お客様に最適な装置を提案することが可能です。254nm、313nm、365nmを始めとした、様々な材料感度に最適な光学部品を有しております。ディスプレイエキシマランプ/エキシマ光照射ユニットエキシマVUV光は希ガスや希ガスハライド化合物のランプから生みだされる非常にエネルギーの高い光です。希ガスや希ガスハライド化合物のガスが封じられたランプに外部から高いエネルギー電子を与えると放電プラズマ(誘電体バリア放電)が多数発生します。このプラズマは高いエネルギー電子を包含しており、かつ瞬時に消滅するという特徴を持っています。このプラズマ放電により、放電ガス(希ガス)の原子が励起され、瞬間的にエキシマ状態(Xe)となります(エネルギーの高い軌道原子に励起され、エキシマ励起分子になります)。このエキシマ状態から元の状態(基底状態)に戻るとき、そのエキシマ特有のスペクトルを発光します。この光をエキシマVUV光と呼んでいます。紫外線照射装置として、LSI製造ラインで採用されている紫外線ホトレジスト硬化です。強力な深紫外線照射により、EPROM、フラッシュメモリなどの電荷を除去。ハイパワー、コンパクト、低温処理を実現するUV硬化・乾燥装置です。目的に応じて、ランプやUV強度、照射幅などのコンポーネントが可能です。均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。キセノンランプをベースに水銀などの金属蒸気を封入した高輝度・点光源のランプです。件を表示7件が該当しました。全てチェックこの画面全ての商品をお気に入り、お問い合わせ、が出来ます。お気に入りこの画面でチェックが付いた製品を右側のお気に入りに登録できます。お問合わせこの画面でチェックが付いた製品をお問い合わせできます。印刷この画面をプリントできます。Reserved.本ウェブサイトはCookieを使用しています。以下の「同意する」をクリックされることにより、お客様は弊社のCookieポリシーに記載されたCookieの使用に同意したことになります。Cookieの使用に同意されないお客様は、お手数ですが、以下の「同意しない」をクリックし、移動先のCookieポリシーに記載の方法に従ってCookieに関する設定を変更ください。