構成する元素からなる1種または数種の化合物ガス、単体ガスをウェーハ上に供給し、気相またはウェーハ表面での化学反応により書房の薄膜を形成させる装置。ガス分子を励起させるには一般的には、熱エネルギーやプラズマ放電を用いる。最近では光(レーザー、紫外線など)励起のCVD装置も実用化されつつある。・ステップカバレージLSIなどの半導体素子薄膜の表面における微細な段差部での膜の被着状態。段差部での被着状態によっては、回路の断線不良などに直接影響し、製品の歩留まり、品質低下の原因となる。Systems社XProtectシリーズ生産拠点メンテナンスFAQ。