ALD」を設立しました。果たすことで産業に貢献します。(JST)の大学発新産業創出プログラム※とその事業プロモーターである野村ホールディングス株式会社の支援を受けて実用化を進めてきました。ALDを設立しました。Deposition(ALD)の略で、Coolは低温(室温)で賢いという意味をイメージしてつけました。この会社は廣瀬文彦教授の研究室の元研究員を中心に従業員5名で発足し、同技術を用いた受託研究、コーティングサービス、装置販売、量産ソリューション提供を行っていきます。金属酸化物膜は、腐食に強く電子部品や金属部品の腐食防止に活用されます。本技術では室温で膜を付けることができ、従来施工が困難であった精密部品や熱に弱い部品への適用が可能になりました。金属酸化膜は湿気などのガス透過を抑えることができ、有機ELや照明用LEDの長寿命化をもたらします。ナノ粒子に適用することで新しい機能をもったエレクトロニクスの創出につながることが期待されます。室温原子層堆積は、廣瀬教授が2012年に発明したプラズマを活用した薄膜作製技術に基づくもので、対象製品を真空容器に入れ、原料となる有機金属ガスとプラズマで処理された水蒸気にさらすことで、表面に膜が形成されるものです。ガスを使うだけなので、複雑曲面をもつ精密部品にも大量一括処理が可能になりました。原子層堆積は数リットル程度の狭小な真空容器で処理されていたところを、廣瀬教授らは2016年に1メートルクラスの六百リットルまで容器の大型化に成功し、大型ガラスパネルへの適用も可能になり、量産に向けて大きく前進することができました。センターならびに米沢市と連携しながら、地域に新たなナノテク製造産業の創出を目指します。