凸版印刷は、中国・上海工場に先端フォトマスクの量産に向けた設備投資を行う。2018年度中には14nmフォトマスクの生産を始める計画である。先端フォトマスクの量産に向けた設備投資を行うと発表した。2018年秋までに順次、量産設備を導入する。2018年4月より65/55nmフォトマスクの量産を始め、2018年度中には14nmフォトマスクの生産を立ち上げる計画だ。中国市場では多くの半導体メーカーが生産拠点を設けている。(TPCS)が、1995年よりフォトマスクの生産を行ってきた。2015年には90nm対応のフォトマスクを生産できる設備を導入するなど、現地半導体メーカーのニーズに応えてきた。TPCSでは、新たな設備投資により、14nmに対応したフォトマスクの生産が可能となる。保護膜(ペリクル)の貼り替えを含めた一貫生産にも対応できる体制が整った。凸版印刷は、今回の設備投資により中国における先端フォトマスクの生産を強化。日本や台湾にある既存の生産拠点を含め、2020年にはアジア市場で約450億円規模の売上高を目指す。7nm世代以降のEUV(極端紫外線)マスクの開発などでも、先行する考えだ。半導体製造装置(新品)販売額は、559億米ドルに達し、過去最高である2000年の477億米ドルを更新する公算が大きい。2017」の基調講演で、中国の半導体市場について講演。中国は、まだ「脅威」ではなく、むしろ大きなビジネスチャンスだと強調した。世界の半導体用シリコンウエハー出荷面積が四半期ベースで増加し、2017年第3四半期(7〜9月)も過去最高記録を更新した。Alliance」を立ち上げ、半導体メーカーがEOL(生産中止)としたIC製品を再設計および再製造するサービス「EOLリボーン」を開始した。半導体フォトマスク市場、2016年は33億米ドルSEMIは、世界の半導体フォトマスク市場規模を発表した。2016年は33億2000万米ドルとなった。2018年は35億7000万米ドルを予測する。Initiativeの調査によると、EUV(極端紫外線)リソグラフィの実用化に対する業界の見方は、だいぶ前向きになっているようだ。LLC.ITmediaはアイティメディア株式会社の登録商標です。