Planarization:化學的機械的研磨)用の材料など高品質で多様な市場ニーズに対応しています。リソグラフィー材料フォトレジスト高感度から超高解像度まで幅広い用途のg線、i線フォトレジストや、光波長248nm(KrF)、193nm(ArF)、液浸露光用の高解像度フォトレジストなど、様々なニーズに備えた製品ラインアップを取り揃えています。MB)液浸露光用トップコート液浸露光で使用される水などの液體がフォトレジスト材料へ浸透することを防ぐほか、フォトレジスト材料からの昇華物質が露光裝置の高級なレンズ表面に悪影響を及ぼすことを防ぐ役割をする材料です。多層ハードマスク微細加工用の有機?無機の塗布型ハードマスク材料です。MB)次世代リソグラフィー用材料10nmノード以降の半導體デバイス生産に適用される技術のための材料です。Planarization:化學的機械的研磨)用のCMPスラリーです。reserved.ページ上部へ上海快3。