グローバル企業NECエレクトロニクスへ請負型の要素技術研究員からメーカーの実用開発技術者を目指す半導体のグローバル企業NECエレクトロニクスへNECエレクトロニクスは2002年11月、NEC本体から独立し、半導体専業メーカーとして新たに誕生した。現在では、世界市場で勝つ製品群の開発に一層の拍車をかけている。今回は、そんな同社で先端的な成膜技術の開発を担うことになる、プロセス開発エンジニアを紹介する。業務内容CVDの塩化金属還元法を用いたSiウェハへの各種素材成膜技術の研究。経て研究業務受託会社に入社。オペレーションおよび設計の経験など。派遣スタイルではなく、半導体の完成品メーカーで、全体を見据えながら成膜技術の実用化開発に取り組みたい。先端プロセス開発の高度化に伴う必要人員の増加と、市場ニーズの多様化に対応する既存プロセスの改良。技術部門のグループマネジャーが各々選考する。グループマネジャーと人事採用担当の計2~4人で面接。所要時間は45~60分。事業部長と人事採用担当マネジャーの計2人で面接。執行役員と人事部長の計2人で面接。所要時間は45~60分。併せて適性検査も行う。メールで1週間以内に通知する。井上:【Point1】早速ですが、最初に大学での研究についてうかがいます。どんな研究でしたか?小林:材料プロセス研究室で卒研としてITO透明導電膜に関する研究を行いました。研究室ではいろいろな成膜法を扱っていましたが、私はスプレー法を担当しました。スプレー法は研究室として初めてでしたので、道具の選定から始めました。原材料はエタノール、塩化インジウム、塩化スズの混合溶液です。方法は、30cm四方のホットプレート上にCorning#7059というガラスを置いて加熱しながら、原料溶液をアトマイザーでシュッシュッと振りかけます。このアトマイザーは100円ショップで売られていたものです(笑)。このタイプの成膜では主にコンプリーディーという方法がとられるのですが、電気的特性や透過率を見てもほぼ同じか、それ以上の性能が得られたので学会発表をし、2件の奨励賞をいただきました。井上:その賞はどこから出たのですか?小林:日本MRSと日本応用物理学会です。井上:ずいぶんユニークな方法をとりましたね。ITO透明導電膜の成膜にはどんなデファクト技術があるのですか?小林:一般的にはPVDと、半導体でも用いられるCVDがあります。あとは、ディップコートという方法があり、それに少し似たスピンコート、さらにはスクリーン法が挙げられます。井上:それだけいろいろな方法がある中で、なぜスプレー法を選んだのですか?小林:【Point2】研究室は化学的手法で先行していて、ほとんどの卒研がディップコートを用いていました。基本的な性能がしっかりしているのと再現性がよいためです。その半面、欠点もあり、ディップを何回もしないと膜厚をかせげませんし、その都度炉に入れて焼く必要があるので膜質が変化することがあります。その点、スプレー法では膜質の変化があまり起きませんから、そこに着目しました。新しいことに挑戦したいという気持ちも強く働いていました。井上:【Point3】100円のアトマイザーは小林さんの発案ですか?小林:いろいろなスプレーを試してみて、たまたま一番よかったんです。【Point4】薬液がまだらに付着しないとか、スプレー圧を測りやすくてほぼ一定の圧にできるなどが特徴でした。井上:そのアトマイザーを使った実験でどんな工夫をしましたか?小林:手動スプレーなので傾きが重要でした。それで、フラスコの固定などで使うアームに装着し、なるべく揺れないようにして一定の力で押しました。井上:それは再現性を高めるためですか?小林:そうです。薬液については塩化インジウムが粉末なので撹拌と濃度に注意し、最適化のためにいろいろ模索しました。井上:濃度を振って実験した?小林:はい。あとは溶液中の金属モル濃度が重要なので、それも多少の幅で変えました。井上:その測定は調量で測ったのですか?小林:はい。最終的にできた膜から蛍光X線などで成分のパーセントを求め、溶液からどれだけ使われたかも計算しました。PVDで作った膜との比較はしましたか?小林:当時、文献で調べた限りでは、CVDで作ったITO透明導電膜として最高の水準でした。比較も文献上でしただけです。井上:できた膜の性能測定は具体的には何を?小林:電気的特性は4深針で測り、シート抵抗を求めました。それと、小さく切って四つ角に針を立ててホール測定。電気的特性はそのくらいで、ほかには反射率や透過率、段差計で膜圧を測ったりもしました。井上:すべて自分で測定したのですか?小林:はい。測定装置が学校にありましたから、使えるようになりました。井上:ちなみに、小林さんが研究したITO透明導電膜にはどんな用途がありますか?小林:【Point5】ピンポイントの用途はないのですが、将来的には赤外線反射膜、タッチパネル、太陽電池などが考えられます。[面接官]大学時代には伸び伸びと研究できるので、半導体プロセス技術開発に限って言えば、そのときの技術レベルと行動特性は実務へと如実に反映されます。7割方はこの部分で採否を決めても間違いないでしょう。面接時間の半分近くを費やしますし、こと細かに質問します。[応募者]実際には大学時代の話が、面接時間の半分を超えていたと思います。4年の実務経験があったので驚きました。戸惑ったわけではなく、好きで取り組んだ研究でしたから、わかりやすく説明できたと思います。[面接官]この答えを聞くと、学部生の割に技術上の視野が広く、しかも自分の取り組む領域をしっかりとした意識でセグメントしていることがわかります。好感がもてた大きなポイントでした。[面接官]先生の指示に頼るだけでなく、本人が主体的に考えたのかどうかを確かめたくて、この質問と次の質問をしました。積極的にチャレンジした人は、聞けば聞くほど本人の発案や工夫が出てくるものです。[面接官]彼女は簡単に答えましたが、実はそれが重要なのです。スプレー法という方法を確立するうえでの条件がわかっていたし、それを追究する技量が高い証拠。全体的に言えることですが、彼女は自身の研究内容をよく理解し、なおかつこちらの目線に合わせて説明しています。この点は高く評価しました。[応募者]このように評価していただけたのはうれしいことです。説明能力についての自覚はまったくありませんでした。学会活動の中などでいつの間にかトレーニングされたのかもしれません。[面接官]この場合、実用化の妥当性は問題ではなく、何のための研究なのかを知っていることが重要。ここまで展望をもって卒研に取り組む工学部生はあまりいません。上位数%に入るレベルの高さです。井上:【Point6】大学でそれほどの研究成果を挙げていながら就職先は建設会社で、しかも事務職ですね?小林:実は、教授にも勧められて修士へ行く気でいたのですが、学費の問題で断念したのです。そのときには就職活動のピークが過ぎていました。そこで、とりあえず家から近い会社に入り、貯金をして大学へ戻ろうと考えました。井上:そこを5カ月で辞めて今の会社へ転職したのはなぜですか?小林:その建設会社では総務部にいたのですが、研究開発をすぐにでも再開したかったのです。ある○○○へ移りました。それからは、×××(大手総合機械メーカー)の研究所へ出向したこともあり、半導体の成膜技術研究の面白さにとりつかれてしまって、大学院へ行く考えはどこかへ飛んでいってしまいました(笑)。【Point7】では、×××での仕事の内容を簡単に話してください。小林:半導体製造装置の開発プロジェクトで研究補助員として入り、最初の約1年はルーティン的な業務をしながら半導体について勉強しました。仕事を覚えるに従って、要素試験を任されるようになりました。具体的には、塩化金属還元法を用いたSiウェハへの成膜技術試験です。この手法はまったく新しいもので、金属ごとに膜がつくかどうかを検証するのが私に与えられたテーマです。井上:その塩化金属還元法について、もう少し具体的に説明してください。小林:この方法で、カッパーについては成膜できることが既に実証されていました。仕組みとしては、原料ガスに塩素を用い、膜にする金属に放電します。すると、プラズマに当たった塩素がラジカルに変わり、ラジカルが金属を攻撃する形になる。その結果、金属は塩化物に変わり、そして基板に達すると、塩化物から塩素が抜けてピュアな金属になって薄膜としてつく。大まかにいうとこうなります。井上:どんな金属を試しましたか?小林:使用が想定されるあらゆる金属です。タンタル、モリブデン、イリジウム、タングステン、ニッケルなどで方法を確立しました。井上:【Point8】化合物からピュアな金属を析出させるのはそう簡単ではありません。成功のポイントはどこでしたか?小林:まず、ターゲットの金属が塩化物をつくるかどうか。次に、塩化物をつくれたとして、解離するのにどれほどエネルギーがいるか。4価、5価の塩化物になると、その分だけ結合を切るのにエネルギーが必要になりますから、膜に損傷を与え、さらには基板を傷めることもあります。エネルギーの兼ね合いを図らねばならないのです。塩化物を解離できるからといって、どこまでピュアな金属に戻せるかは一層の問題でした。井上:そういう課題をクリアするのに、どんな工夫をしましたか?小林:主に、それぞれの金属についてガス流量とRFパワーのレンジを変えて試しました。細かいことでは、ガス導入のタイミングを変えるようなこともしました。(このあと井上氏は、塩化還元法では成膜が難しいモリブデンとイリジウムについて、それぞれどこが問題になり、どう解決したのかを詳細に質問していった。井上:塩化還元法で新たにいくつもの金属の成膜技術を確立したということで、×××から社長賞の中のベストイノベーション賞が出ていますね。小林さんだけが対象者でしたか?小林:賞は1件だけで、プロジェクトに対する表彰でした。井上:プロジェクトのメンバー数は?小林:当初は5人で、最終的には20~30人規模になりました。井上:5人のときのメンバー構成は?小林:プロジェクトマネジャーと、その下に正社員が2人。ほかに、私のような出向者が2人でした。井上:プロマネが小林さんに直接指示を出すのですか?小林:当初はそうでしたが、慣れてくるに従って私のほうからアイデアを出し、承認をもらい、結果を報告するという形になりました。井上:そのアイデアというのは、先ほどうかがった課題解決の諸々の試みのことですね。プロマネに報告する頻度はどのくらいでしたか?小林:毎日か、その都度です。井上:【Point10】実験法に関してプロマネと意見がぶつかるようなことはありますか?小林:議論はしますが、調整がつかなかったことはありません。(このあと井上氏は、今回の転職理由と志望動機を尋ねた。入社後に希望する業務内容を確かめ、小林さんのほうからの質問を促した)[面接官]不思議な職歴なので触れないわけにもいかず、一応尋ねました。納得できる答えならば特に気になりません。同様に、今の会社へ転職した理由についても違和感がなかったので、あっさり先へ進みました。[応募者]1社目がなぜ建設会社なのかという質問は当然されると思っていました。恥ずかしい理由ですが、正直に話す心積もりでした。[面接官]業務内容についての説明を聞く際に着目するのは、簡潔明瞭さとともに熱意です。こんな仕事をしてきて自信があるから聞いてほしいという気持ち。熱意が強すぎるあまり、面接という場の空気を読めずに空回りするようではマイナスです。[面接官]当社のCVDで塩化物を用いることはあまりないのですが、新しい方法で成膜させるための考え方と実験の技量は、かなりの程度で応用が利きます。そのレベルを探ろうと思いました。答えは予感したとおり総論から金属ごとの各論へと進み、この人は研究開発の実務でもいかんなく力を発揮してきたのだと思いました。[面接官]職務経歴書に社長賞をもらったと書く応募者はまま見受けられます。乱発されている社長賞では意味も少ないのです。[面接官]プロジェクトマネジャーとの関係で最後にこの質問をしたわけですが、なぜこの点にこだわったかというと、技術力は高くても協調性に疑問符が付く応募者も中にはいるからです。●広くサイエンスを理解する能力のレベルがあるか。●半導体プロセスに携わる基本技術が十分か。●自身が携わる技術についてよく理解し、それを表現できるコミュニケーション力があるか。求めているのはイノベーションの能力だ。そのため、サイエンスに対する理解力を重視し、主に学生時代の研究内容やアプローチ法から判定する。2次面接ではここの比重が最も大きい。経験技術に関しては、半導体プロセスの要素開発かモジュール開発のどちらかで業務内容と適合しているか、応用を利かせられる基本があるかどうかをチェックする。コミュニケーション力では、自身の仕事や周囲との位置関係をきちんと理解し、相手に合わせて伝えられることがポイントとなる。「半導体製造の全体を見ながら成膜技術の開発に打ち込みたい。そんな私の希望にぴったりの会社でした。各分野の専門家ともざっくばらんに話して勉強できると感じました」この会社には、半導体製造に関するすべてがあります。全体を見ながら成膜技術を開発したいと思って今回の転職活動を始めましたから、希望条件にぴったりだったのです。私のほうから質問もしたのですが、その道ごと、分野ごとの専門家が大勢いると知りました。半導体についての勉強ができ、幅を広げ、深めていける環境だと確認できたのです。ざっくばらんに話ができそうな雰囲気が感じられ、ぜひにと決めました。...あなたを求める企業がある!まずはリクナビNEXTの「スカウト」でチャンスを掴もう!高橋マサシ(総研スタッフ)からのメッセージ一時は「日の丸半導体」などと世界を席巻していた日本企業の半導体技術。数年で欧米韓にシェアを奪われてしまいましたが、少しずつ巻き返しが始まっているようです。そりゃそうですよ、日本のエンジニアがそんな屈辱に耐え切れるはずもありません。今後も日本のコア技術を紹介していきます。転職を果たしたエンジニアと面接官が当時を再現。応募者と面接官それぞれの言葉の真意や、面接でチェックされるポイントをレポートします。半導体業界にいるけれど、情報システムへの興味が募る一方だったN・Wさん。いっていいほど出てくる「最後に質問があればどうぞ」というひと言。Tech総研リクルートグループサイトへ。