1|2例えばSRAMは、EUVリソグラフィ技術なくしては、14nmに微細化することは不可能だと言われている。これは、各機能の回路を隣接して配置するには、マルチパターニングでは限界があるためだ。Ronse氏は、「EUVリソグラフィ技術が確立されれば、ムーアの法則に追い付くことができる。現在、EUVリソグラフィ用の光源は、さまざまな材料を使って開発が進められている。近い将来、EUVリソグラフィ技術が確立されることは間違いないが、2年以内の実用化はかなり厳しい」と述べている。IntelとTSMCは最近、EUVリソグラフィ技術の実用化に向け、ASMLに数十億米ドルの投資を行うことを明らかにした。Intelは、2013年に14nmノード、2015年に既存の液浸リソグラフィ技術で10nmノードを実用化する計画も明らかにしている。Intelは、「EUVリソグラフィ技術の導入が2015年に間に合わない場合、液浸リソグラフィのパターニングを従来の5倍に増やして回路パターンを形成する」としている。この方法には時間とコストがかかるが、それでも半導体製造の効率化は図れるという。3100の導入以降、現在までにスループットを60%以上高めたという。Ronse氏によると、「最初の6カ月は安定した精度を得られなかった。旧型の光源に問題があったため、スループットが50%から10%に落ちたこともあった」という。Japan)原文へのリンク関連記事IntelがASMLに41億ドルの資金投資、EUVリソグラフィ技術の開発加速を狙う10nmノードに向けたリソグラフィ技術を、2015年には導入したいIntel。ASMLに資金を提供することで、EUVリソグラフィ技術と450mmウエハー製造技術の開発を促進する考えだ。TSMC、ASMLの研究開発プログラムに14億ドルを投資ASMLは、同社の株式の最大25%を売却して研究開発資金を調達しようとしている。25%のうち15%はIntelが取得することで合意している。今回は、TSMCが5%を取得することを発表した。TSMCの14nm世代への移行は遅れる可能性も、「原因は経済的な問題」TSMCの14nmプロセスへの移行が、スケジュール通りにはいかない可能性が出てきた。Chiang氏は、この原因を「技術的な問題というより、経済的な問題である」とし、「リソグラフィ技術の選択について決断を急ぐ必要がある」と語った。LLC.ITmediaはアイティメディア株式会社の登録商標です。