)本発明のホログラムシートAでは、フォトクロミック薄膜層3の上に形成されているホログラムレリーフに接して、且つ、追従するように透明反射性薄膜層4を形成する。この透明反射性薄膜層4は、入射した光を反射する必要があるため、透明基材1よりも高い屈折率を有する透明な薄膜であれば、特に限定されない。́においても、ホログラム形成層2の上に形成されているホログラムレリーフに接して、且つ、追従するように透明反射性薄膜層4を形成する。この透明反射性薄膜層4は、入射した光を反射する必要があるため、ホログラム形成層2よりも高い屈折率を有する透明な薄膜であれば、特に限定されない。いずれでもよいが、その透明性により、「ラベル」や「転写箔」として貼着もしくは転写後にその「ラベル」や「転写層」に覆われた被貼着体や被転写体上の画像などがホログラムを通して観察できるので好ましい。具体的には、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム形成層2や、フォトクロミック薄膜層3のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるものを用いることができる。ホログラム形成層2や、フォトクロミック薄膜層3よりも光屈折率の高い薄膜には、例として、ZnS、TiO2、Al2O3、Sb2S3、SiO、SnO2、ITOなどがある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Be、Mg、Ca、Cr、Mn、Cu、Ag、Al、Sn、In、Te、Ti、Fe、Co、Zn、Ge、Pb、Cd、Bi、Se、Ga、Rb、Sb、Pb、Ni、Sr、Ba、La、Ce、Auなどの酸化物もしくは窒化物他、または、それらを2種以上を混合したものなど(透明金属化合物)が例示できる。【0161】またアルミニウムなどの一般的な光反射性(可視光波長のほぼ全域にわたる反射、すなわち、「全反射」に近い性質を有する。)の金属薄膜も、厚みが100nm以下になると、透明性が出てくるため、その厚さが10nm〜50nmの範囲で使用できる。透明反射層(透明金属化合物層)の形成には、金属化合物の蒸発温度が、金属よりも高いことから、高温加熱を要するものの、その厚さは、10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるように、電子線加熱方式の蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVD(化学蒸着法)などの真空薄膜法などを用いて設けることができる。形成する薄膜層を薄くしておくと、その熱的ダメージを少なくすることができる。́に、蛍光灯等の照明光5を照射すると、その透明反射性薄膜層4による反射光によってホログラム再生像6(例えば、レインボーホログラム。)を視認することができる。́にフォトクロミック薄膜層3のフォトクロミック薄膜を発色させる所定の波長の光、例えば、365nm波長の紫外線7を照射すると、「赤色」単色のホログラム再生像8が特定の方向に定常的に出現する。ホログラムシートAの「反射型」のホログラムにつき図示したもの。́を透過する方向となるが、その再生原理は同様である。)そして、紫外線7の照射方向を変化させても、「赤色」単色のホログラム再生像8の再生方向(上記の特定の方向。)は変化せず、高い偽造防止性があると認識できるものである。【0165】(実施例1)透明基材1として、12μmのPETフィルムの表面に、メラミン樹脂組成物を塗布し、ホログラム画像位置検知パターン付きのレリーフホログラム(「発光」の文字画像:図4参照)の複製用型の型面を、接触させたまま加熱硬化させることにより、レリーフホログラムの形成を行ない、厚さ3μmのホログラム形成層2を得た。【0166】このホログラム形成層2上に、下記組成の樹脂分散型のフォトクロミック分子含有インキをグラビアコーティング方式により、コーティングし乾燥して、フォトクロミック薄膜層3を15μm厚さで、ホログラムレリーフに接するように形成し、乾燥して、3.0μm厚さとした。100nm厚さのTiO2薄膜からなる透明反射性薄膜層4を形成し、本発明のホログラムシート(図示せず。【0167】このホログラムシートを、図4のように、蛍光灯照明光(図4における5に相当する。)下に置くと、ホログラム再生像(図4における6に相当する。