枚葉式電気めっきシステムのRaiderプラットフォームは、ウェーハレベルパッケージング、ダマシン配線、およびTSVアプリケーションといった、幅広いプロセス向けに大量生産の能力を提供します。各市場分野ごとに特有の要求に応え、最大限の性能を提供するために、Raiderはアプリケーションに特化したプロセス構成が可能となっています。装置は、150mm-300mm向けの枚葉式、自動、マルチチャンバ、電気化学成長システムで、小さな占有面積で高いスループットを提供します。ECDは、メモリおよびロジックデバイスの銅配線ギャップフィル向けのシステムで、ダイナミック電流制御テクノロジー、マイクロ秒のレシピ制御、業界で最も幅広いプロセス薬液(低〜高バス電導性)の使用が可能です。Mは自動化された高性能枚葉式ウェーハECDシステムです。同システムは、個々のプロセスチャンバを備えた精密な全自動ウェーハハンドリングシステムを搭載し、自動薬液管理システムとの互換性も有しています。M-Quattroは、高性能枚葉式ECDシステムで、完全自動精度ウェーハハンドリングとマルチプロセスチャンバを備えています。同システムは、個々のプロセスチャンバを備えた精密な全自動ウェーハハンドリングシステムを搭載し、自動薬液管理システムとの互換性も有しています。Reserved.[+]。