当社は自ら半導体材料を始めとした各種ガスを製造する一方で、グローバルネットワークを駆使して、地球規模であらゆるガスを調達し極少量から大量(ISOコンテナ)まであらゆるサイズの容器でどこにでもお届けできます。7305)へのご来場をお待ちしております。・今回展示を行います主要製品を列記致します。世界で最先端の有機金属系材料及びガスをご紹介致します。バブラーボトル(有機金属材料を入れる容器)を展示致します。試作研究用50mlから製作が可能となりますので、ぜひご覧ください。頂ける材料を提供致します。・極少量の0.35lからISOコンテナー26,000lまであらゆる容器サイズで提供致します。・半導体用エッチング、クリーニング用フロン系ガスオゾン層を破壊と言われているフロン系ガスですが、地球温暖化係数をより少なくすることにより、地球環境にやさしいガスを紹介致します。(72エンリッチゲルマン)イオン注入装置に使用しているGermanium中に存在する同位体うちで自然存在比が高いのは72Geです。その72Geの濃度を高めた高千穂のエンリッチ72GeF4は、同じガス流量で72Geイオン電流が多く得られ、製造スループット向上に貢献します。72Geを選択することにより、Asコンタミの影響を排除できます。貴社の装置に合わせた適切な容器サイズにて供給いたします。ハザードスイーパーTM日本で唯一の可搬式局所排気用(モバイル)除害クリーナーです。毒性ガスを使用する現場を安全にクリーンな環境を維持できます。今年はALD用薬剤もご準備致しました。可搬式のため、複数の同一ガス設備に対して1つのハザードスイーパーTMで対応できます。ミストスクラバーTM(当社製品)を接続することで可燃物を吸引した際の安全性を向上できます。エキシマレーザー用ガス当社では、1997年よりエキシマレーザー用F2ミックスガスを販売しており、世界中から独自に調達ルートを確保したネオンによる混合ガスも承ります。貴社ご希望の濃度に合わせて製造致しますので、ご相談ください。HCl/H2/Ne)レガシー半導体用高純度ガス半導体産業の草創期より、半導体製造向けの高純度ガスを供給してまいりました。イオン注入においては、1969年よりガス容器の交換業務を開始し、また、1981年には後の業界規格となる0.35L容器も取り扱いを開始しました。(残留N2濃度0.1ppm未満)を販売中。保証のみならず、残留濃度の実測値報告サービスも行います。米国DOTの認証を受けた安全性の保証された容器にて、大気圧以下でインプラ用ガス貯蔵が可能なSDS®2,SDS®3を国内で独占製造しています。bothセミコンジャパンに唯一のガスメーカーとして出展を継続しております。ご来訪をお待ちしております。